最終更新日:
2023-03-07 11:13:01.0
半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電位差自動滴定装置を使って品質管理を自動化
酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。
塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。
しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。
メッキ浴 鍍金浴
基本情報
メトロームの自動滴定装置を使用して酸性銅めっき浴の塩化物イオン濃度を測定することで、品質管理を自動化できます。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | 滴定による界面活性剤の定量 |
用途/実績例 | 小冊子は無料ダウンロードできます。 |
詳細情報
OMNIS滴定システム
OMNIS滴定システム
関連カタログ
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
メトロームジャパン株式会社 本社
- 電気化学測定(ポテンショスタット/ガルバノスタット)
- 近赤外分光分析計(NIR)
- ラマン分光計
- 電動ビュレット・手動滴定・精密分注
- カールフィッシャー水分計
- 電位差自動滴定装置
- イオンクロマトグラフ(IC)
- 電気化学分析装置(VA/CVS)
- 酸化安定性試験装置(ランシマット)
- pH/各種滴定用電極
- pH・イオン・導電率計
- 温度滴定
- ピルス 微粒子捕集装置
- 大気汚染物質モニタリング
- オンライン分析装置
- すべての製品・サービス