メトロームジャパン株式会社

本社

【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

最終更新日: 2023-03-07 11:13:01.0
半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電位差自動滴定装置を使って品質管理を自動化

酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。
塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。
しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。
メッキ浴 鍍金浴

関連動画

基本情報

メトロームの自動滴定装置を使用して酸性銅めっき浴の塩化物イオン濃度を測定することで、品質管理を自動化できます。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 滴定による界面活性剤の定量
用途/実績例 小冊子は無料ダウンロードできます。

詳細情報

omnis_4300.jpg
OMNIS滴定システム
omnis_4305.jpg
OMNIS滴定システム

関連カタログ

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  必須
ご要望  必須
目的  必須
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

メトロームジャパン株式会社 本社

製品・サービス一覧(215件)を見る