最終更新日:
2022-01-18 17:40:28.0
真空装置、半導体製造装置に使用する部品を真空中で高温処理します。プロセスの立上げ、工程時間の短縮に貢献します。
クリーンルーム中で真空チャンバを使いグラファイト、セラミックス、メタル部品などの脱ガス処理を行います。表面に付着したガスだけではなく、内部に浸透した水分なども除去できます。
【用途】
■真空装置、半導体製造用部品などの脱ガス
■グラファイト、セラミックスなどの脱ガス
■部品洗浄後の空焼き
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基本情報
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価格帯 | お問い合わせください |
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用途/実績例 | ■真空装置、半導体製造用部品などの脱ガス ■グラファイト、セラミックスなどの脱ガス ■部品洗浄後の空焼き |
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