［SAXS］X線小角散乱法

最終更新日: 2018-10-23 14:31:09.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

X線を物質に照射して散乱したX線のうち、2θ＜10°以下の低角領域に現れるものを測定し、物質の構造を評価する分析手法です。
SAXS分析（X線小角散乱法）における下記の情報を掲載しております。
・原理
・特徴
・データ例
・適用例

関連情報

■周期構造による散乱
周期構造による散乱では、(1)のようなプロファイルが得られます。構造単位の周期性がピークとして現れます。低角領域の散乱X線を見ることで、数nm～数十nm程度の分子レベルの周期構造まで測定することができます。

■粒子内部における散乱
粒子内部における散乱では、(2)のようなプロファイルが得られます。プロファイルの傾きは粒子（空孔）の大きさを反映しており、形状は粒子の形状や粒径分布を反映します。

広角に散乱されたX線⇒Åオーダーの結晶の面間隔・歪み・配向性を評価
低角に散乱されたX線⇒ナノオーダーの分子の周期性・配向性を評価

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