最終更新日:
2024-04-10 10:29:46.0
フォトレジストの塗布、露光、現象の3つのステップで構成されます。
リソグラフィとは、半導体製造においてウェハに回路パターンを描く
工程のことです。
この工程は、半導体の性能やコストに大きな影響を与えるため、
常に技術革新が求められています。
現在主流となっているリソグラフィ技術は、「液浸式アーゴンフッ素(ArF)
エキシマレーザー」です。
【基本原理】
■フォトレジストの塗布
■露光
■現象
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基本情報
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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