最終更新日:
2024-03-08 14:46:09.0
微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術。
投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に
形成するために使用される技術の一つです。
半導体基板上にUV(紫外線)光を照射することで、フォトレジストと
呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。
フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が
溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチングなどの
プロセスで取り除き、残った部分には微細なパターンが形成されます。
【特長】
■光に敏感な材料にパターンを形成する
■ステッパーが使用される
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