夏目光学株式会社

EUVとは?

最終更新日: 2024-03-08 14:45:52.0
主に半導体リソグラフィ用途に13.5nmのEUV光源が用いられます!

EUVは、極端紫外光のことで、Extreme Ultravioletの略称です。

主に半導体リソグラフィ用途に13.5nmのEUV光源が用いられ、
従来のArFエキシマレーザー(193nm)に比べより微細なパターンが
描写可能です。

EUVは物質への吸収率が極めて高く透過型の光学系(レンズ)を
使用できないため、反射光学系(ミラー)を用いる必要があります。

【特長】
■物質への吸収率が極めて高い
■透過型の光学系(レンズ)を使用できないため、反射光学系(ミラー)を
用いる必要がある

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  必須
ご要望  必須
目的  必須
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

夏目光学株式会社