シエンタ オミクロン株式会社

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

最終更新日: 2020-01-10 11:48:13.0

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報となります

The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A maximum total layer thickness of 5 μm C with one filament is reported.
詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報となります。

●詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。
価格情報 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
※ お問い合わせください
用途/実績例 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  [必須]
ご要望  [必須]
目的  [必須]
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

シエンタ オミクロン株式会社

ページの先頭へ