サンユー電子株式会社

研究・開発実験用 RFスパッタ装置

最終更新日: 2024-03-27 22:43:50.0

実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置☆

お薦めPOINT <実験目的にあわせたカスタマイズ!!>
1.試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意
2.カソードサイズは2〜6インチに対応
3.2インチカソードタイプは3源式にも対応 = 薄膜の積層を実現
4.多彩なオプションをご用意
  基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.

☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜生成に対応した小型RFスパッタ装置☆

お薦めPOINT <実験目的にあわせたカスタマイズ!!>
1.試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意
2.カソードサイズは2〜6インチに対応
3.2インチカソードタイプは3源式にも対応 = 薄膜の積層を実現
4.多彩なオプションをご用意
  基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.
価格情報 -
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 SVC-700RFシリーズ
用途/実績例 各種用途における絶縁薄膜/酸化薄膜生成
ラインアップ
型番 概要
SVC-700RFI 2インチカソード(デポダウン)専用 ベンチトップタイプ小型RFスパッタ装置
SVC-700RFII Type-I 2~4インチカソード対応(1源) ※2インチは3源式対応 研究開発用RFスパッタ装置(出力300W)
SVC-700RFII Type-II 6インチカソード対応モデル 研究開発用RFスパッタ装置(出力300W)

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