あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。
PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。
様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
[流量]
0～300Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec
◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇
0～300Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec
◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | TEM-800 |
| 用途／実績例 |
・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス ・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス ・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエア(CDA) |
関連ダウンロード
GasPro PTFE ガスフィルター TEM-800シリーズ
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
