上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
関連情報
アークフィラメント式イオンプレーティング装置
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電子銃による各種材料の安定蒸発と新型イオン化機構による高密度プラズマで反応膜を高速形成。
各種生成膜
硬質耐酸化性膜:SiC
耐プラズマ性膜:Y²O³
硬質窒化膜 :TiN,CrN,TiC
硬質酸化膜 :AI²O³
半導体製造装置部品の表面処理膜から精密金型の耐酸化性コーティングまで新機能表面処理用コーティング装置
イットリアコーティング装置(AF-IP装置)
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電子ビームによる各種材料の蒸発とアークフィラメント式イオン化法により安定して反応膜生成膜(窒化膜・酸化膜・炭化膜)を形成。
成膜レートも反応ガス流量のみで制御。シンプルで信頼性の高いハードにより最新の成膜プロセスを提供
充実の成膜プロセス
・耐プラズマ性イットリア膜(10μm)
・耐酸化性硬質膜SiC(7μm)
その他従来型硬質膜 TiN、TiC,CrN
その他成膜対応
大型真空オーブン
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600mm□×600mmH/バッチの大量バッチ処理
炉内全面ヒーターの均一加熱
ドライポンプ+ターボ分子ポンプの完全ドライ排気系
高真空・低真空・大気圧の各圧力下での加熱処理対応
基板と目的に合わせて排気系・ガス系・処理温度・炉内構造・治具選択可能
硬質膜用スパッタリング装置STL5521型(精密レンズ金型用)
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最大5元kソードを装備し、5元同時スパッタが可能な専用スパッタ室と重量基板の搬送に適したロードロック機構で金型コーティングに対応。
650℃の加熱とガス冷却機構を併用する特殊基板台を装備。
高温加熱による膜の密着力の確保と処理の高速化を実現。
幅広い材質・形状に最適な膜種・処理温度・プロセスを実現できる硬質膜用専用ロードロックタイプスパッタリング装置
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神港精機株式会社 東京支店