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- 2024-10-13 00:00:00.0
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★IntelliLink★nanoPVD薄膜実験装置に新機能「インテリリンク」リモートソフトウエアをリリース！ -
nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置、nanoPVD-T15A 金属膜/ 有機膜蒸着装置、nanoPVD-ST15A 複合型薄膜実験装置に専用のリモート管理ソフト「IntelliLink（インテリリンク）」をリリースしました。
装置付属の7"タッチパネルで装置運転・成…
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- 2024-10-13 00:00:00.0
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多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
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多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応）
・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更
・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用
・基板加熱ステージ Max…
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- 2024-10-13 00:00:00.0
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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム
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2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能（写真下）。
1. MiniLab-E080A（蒸着装置）
・EB蒸着:7ccるつぼ…
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- 2024-10-13 00:00:00.0
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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S060】
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Φ2inchカソード x 4基搭載
同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1
プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能
MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング…
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- 2024-10-13 00:00:00.0
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab-E080A/S060A】
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2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能（写真下）。
1. MiniLab-E080A（蒸着装置）
・EB蒸着:7ccるつぼ…
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- 2024-10-13 00:00:00.0
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☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆
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スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です…
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- 2024-10-13 00:00:00.0
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☆★☆★【nanoCVD-WGP】ウエハースケール・グラフェン/カーボンナノチューブ合成装置 ☆★☆★
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Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
【装置構成例】
・基板：C…
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- 2024-10-12 00:00:00.0
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◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇
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研究開発用のRF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
● 到達圧力 5x10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
● 膜均一性 ±3%
● 多彩…
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- 2024-10-12 00:00:00.0
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ウエハーアニール炉【MiniLab-WCF】Max2000℃_超高温ウエハーアニール専用（4inch〜8inch）
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Max2000℃ Φ6〜8inchウエハー専用高温アニール装置 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
◾️ Max2000℃
◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット）
◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御）
◾️…
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- 2024-10-12 00:00:00.0
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高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
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◉最高使用温度 Max2000℃
◉PLCセミオートコントロール
卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース…
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