製品ニュース
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2024-04-28 00:00:00.0
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【セラミック・トップ・ヒーター Max1800℃】PVD/CVD薄膜開発用真空ホットプレート_Φ1inch〜Φ4inch
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半導体, 電子基板等の真空薄膜実験用途に最適!
真空装置内でのシリコン, 化合物, サファイア基板等の加熱・成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタリング等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱ヒーター
プロセスに応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ Maxエレメント温度
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2024-04-28 00:00:00.0
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■□■ R&D用小型縦型炉 TVF-110 ■□■
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ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉
【用途】
◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
◉…
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2024-04-28 00:00:00.0
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【Lab6放電プラズマ生成ヒーターユニット】C/Cコンポジットヒーター
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◉ 超高温Max1800℃円筒状加熱ヒーター
ご指定の仕様にて都度製作致します。
* 従来の金属ヒーターでは不可能だった高温領域が必要なアプリケーションに応用検討下さい。
◎ 使用可能環境:真空中, 不活性ガス中 etc..
◎ 発熱体:Graphite, C/Cコンポジットヒーター、など。…
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2024-04-28 00:00:00.0
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◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆
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多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
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2024-04-28 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置★☆★☆
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小型・省スペース! 有機薄膜開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
有機EL, 有機薄膜太陽電池, 有機薄膜太陽電池, 又, グラフェン・2D材料(遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料)などの開発プロセスでは、酸素・水…
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2024-04-28 00:00:00.0
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★IntelliLink★nanoPVD薄膜実験装置に新機能「インテリリンク」リモートソフトウエアをリリース!
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nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置、nanoPVD-T15A 金属膜/ 有機膜蒸着装置、nanoPVD-ST15A 複合型薄膜実験装置に専用のリモート管理ソフト「IntelliLink(インテリリンク)」をリリースしました。
装置付属の7"タッチパネルで装置運転・成…
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2024-04-28 00:00:00.0
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◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
◉有効加熱範囲:Φ2inch〜Φ4inch
◉PLCセミオートコントロール
卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を…
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2024-04-28 00:00:00.0
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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム
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2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能(写真下)。
1. MiniLab-E080A(蒸着装置)
・EB蒸着:7ccるつぼ…
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2024-04-28 00:00:00.0
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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S060】
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Φ2inchカソード x 4基搭載
同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1
プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能
MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング…
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2024-04-22 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆
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必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(…
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2024-04-22 00:00:00.0
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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ステージ Max1800℃_Φ2〜Φ4inch
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半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ 超高真空・不活性ガス・O2・…
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2024-04-22 00:00:00.0
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□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■
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卓上サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃
還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上 省スペース:328 x 220 x 250mm
◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用
◉ ハイスペック&…
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2024-04-22 00:00:00.0
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◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇
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研究開発用のRF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
● 到達圧力 5x10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!)
● 膜均一性 ±3%
● 多彩…
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2024-04-22 00:00:00.0
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☆★☆【nanoETCH】ソフトエッチング装置☆★☆
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<30W低出力制御によるダメージレスエッチング
出力制御精度 10mWで、低出力にもかかわらず精密で安定したプラズマ処理。
2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。
【特徴】
• 2D(遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写…
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2024-04-22 00:00:00.0
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【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max 2000℃_ウエハー高温焼成専用(4inch〜8inch)
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
◉Max2000℃
◉3種類のヒーター材質:
・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch
・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch
・TiC3(チタン・カ…
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