ティー・ケイ・エス株式会社

AVP Technology社製 HR-PVD スパッタリングモジュール

最終更新日: 2021-03-10 14:35:47.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリコンプラズマイオンソースPVDモジュール
・ヘリコンプラズマイオンソースを用いたPVDモジュールでICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。
・傾斜角方向からの成膜により膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。
・ターゲット利用効率においても優れた結果が得られています。
・ご要望に応じて他のPVDやエッチングモジュールとの組合せ使用も可能です。

関連情報

高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)
高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像
リモートプラズマイオンソース採用
グリッドレスソースとターゲットバイアスを組み合わせた画期的スパッタ法
▸高い直進性による異方性成膜の実現
▸リモートプラズマによる低温成膜の実現
▸グリッドレス構造によるメンテナンスコスト低減の実現
▸ターゲット利用効率の向上によるランニングコスト削減を実現

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