最終更新日:
2024-03-11 11:21:10.0
In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応！独FHR社製高速成膜ALD装置
『FHR.STAR-400x300SALD』は、200mmウェハあるいは
400x300mmまでの基板やテキスタイルの成膜に対応した
高速成膜ALD（Spacial ALD）装置です。
400x300の基板では10mm厚迄の3次元形状への均一な成膜が可能。
従来のサーマルALD方式に較べ高速で成膜できるためデバイスの量産に
使用が可能でIn-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応する
設計となっていますのでより精度の高いプロセスコントロールができます。
クラスター対応設計により必要に応じて搬送チャンバー、ロードロック、
その他プロセスチャンバーをインテグレーションができ、この設備の
他小口径ウェハ対応の設備も用意しておりますのでお問い合わせ下さい。
【特長】
■10mm厚迄の3次元形状への均一な成膜が可能（400x300の基板）
■従来のサーマルALD方式に較べ高速で成膜できる
■デバイスの量産に使用可能
※英語版カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【その他の特長】
■200mmウェハや400x300mmまでの基板やテキスタイルの成膜に対応
■In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応する設計
■より精度の高いプロセスコントロールができる
■クラスター対応設計により必要に応じて搬送チャンバー、ロードロック、
その他プロセスチャンバーをインテグレーション可能
■小口径ウェハ対応の設備もご用意
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| 用途／実績例 | ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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