最終更新日:
2024-03-21 13:42:20.0
リモートソース型イオンビームスパッタ装置 リモートプラズマソースの開発メーカー
PlasmaQuest社
ヘリコン型 高密度イオンソースの開発販売、及び 応用製品の開発販売で25年の歴史を持つ優良企業です。
グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。
その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。
従来のマグネトロンスパッタ装置では困難とされる高磁性ターゲットや高誘電ターゲットのスパッタ、金属とセラミックなどの異種ターゲットを同時に用いるCo-スパッタなど、多用途での運用を可能としています。
研究用途から生産規模の装置まで柔軟に対応できる多性を整えています。
基本情報
高密度イオンソースの開発製造
ターゲットバイアス印加によるスパッタ装置の開発製造
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | 高密度プラズマイオンソースとイオンビームスパッタ装置の開発メーカー |
| 用途／実績例 | スピントロニクス用途研究 高磁性薄膜ヘッド用途研究 MEMS開発研究 光学薄膜研究 |
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