東京電子株式会社

電源装置『HiPIMS用パルス電源』

最終更新日: 2020-04-20 15:50:41.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

高密度のプラズマを生成し、高いイオン化率により高品質の成膜をする方法を用いた電源装置
『HiPIMS用パルス電源』は、バイポーラパルスのアンカー効果により、
ハードコーティングを実現した電源装置です。

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)とは、
スパッタリングの一種で、低いduty比で集中させた高い電力を
瞬間的にカソードに投入することで高密度のプラズマを形成する手法です。
表面の平滑性が良く、緻密な膜ができる等の様々な利点があります。

【特長】
■高密度のプラズマを生成
■高いイオン化率により高品質の成膜
■バイポーラパルスのアンカー効果でハードコーティングを実現
■反応性スパッタ、DLC、酸化膜、窒化膜成膜に対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

関連情報

電源装置『HiPIMS用パルス電源』
電源装置『HiPIMS用パルス電源』 製品画像
【装置構成】
■正極用 DC電源(Vp-DC Unit)
■負極用 DC電源(Vn-DC Unit)
■パルスユニット(Pulse Unit)
■コントロールユニット(Control Unit)
■制限抵抗器(R-Unit)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
電源装置『アーク抑制型HF-HiPIMS用パルス電源 』
電源装置『アーク抑制型HF-HiPIMS用パルス電源 』 製品画像
【装置構成】
■正極用 DC電源(Vp-DC Unit)
■負極用 DC電源(Vn-DC Unit)
■パルスユニット(Pulse Unit)
■コントロールユニット(Control Unit)
■制限抵抗器(R-Unit)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  必須
ご要望  必須
目的  必須
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

東京電子株式会社

カタログ 一覧(49件)を見る