ユニテンプジャパン株式会社

ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

最終更新日: 2023-08-22 09:08:40.0
課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼性実装を実現。高速昇温・降温で量産にも!

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの
焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した
卓上型真空はんだリフロー装置です。

有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも
余裕で対応することができます。

【特長】
■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応
■卓上型サイズながら、最大到達温度450℃を実現
■大気リフロー、窒素ガスパージリフロー、真空リフローに標準対応
■ギ酸還元リフロー、フォーミングガス(水素+窒素)リフローに
 オプションで対応可
■水冷方式による高速降温に対応
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

【その他特長】
■ワーキングエリアがガスシールドされているため、コンタミを気にするプロセスや、
その他のクリチカルなプロセスに使用することが可能
■下面からのIR(赤外)ヒーターによって加熱が行われるため、正確で高速な加熱を行うことが可能
■適切な真空ポンプとの組み合わせによって、最大0.1Pa(10Λ3 hPa)の真空環境を実現可能
■タッチパネル式モニターを標準装備。タッチ操作による簡単なオペレーションが可能
■50セグメント(行)の温調プログラムを最大50プログラム、本体に登録可能
■経過時間、チャンバー内温度、チャンバー内真空度など、多彩なトリガーモードを使用可

【第2回 ネプコンジャパン [秋]】出展予定
会期 :2023年9月13日(水)~9月15日(金) 
会場 :幕張メッセ
小間 :7-41
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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