ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算
当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。
希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、
有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。
お客様のニーズに合わせた対応も可能です。
【ラインナップ】
《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》
■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応
■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能
《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》
■低圧のプラズマシミュレーションが可能
■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに
この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、
プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
【その他の特長】
■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、
真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用
■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能
■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを
計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり、
品質の悪い計算格子が有っても、必ず収束解を得られます
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが初めての方や
実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能
◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI上で、複数の反応式を設定も可能
・成膜速度分布
・電子とイオンの密度分布
・ラジカルと励起種の発生分布
・イオンフラックス分布
・エロージョン速度分布 など
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、
真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用
■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能
■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを
計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり、
品質の悪い計算格子が有っても、必ず収束解を得られます
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが初めての方や
実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能
◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI上で、複数の反応式を設定も可能
・成膜速度分布
・電子とイオンの密度分布
・ラジカルと励起種の発生分布
・イオンフラックス分布
・エロージョン速度分布 など
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| 価格情報 | お気軽にお問い合わせ下さい。 |
|---|---|
| 価格帯 | 100万円 ~ 500万円 |
| 納期 | ~ 1週間 |
| 型番・ブランド名 | 『DSMC-Neutrals』『Particle-PLUS』 |
| 用途／実績例 |
◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの，膜への影響 |
関連ダウンロード
半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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