最終更新日:
2023-08-01 09:20:19.0
用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置
日本電子株式会社 BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置は、研究開発や少量生産に適した蒸着装置です。
様々なオプション機器が搭載可能で、チャンバー形状やロードロック等、ご要望に合わせて制作します。
〇特長
・蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択でき、任意に組み合わせて複数台搭載することが可能。
・電子銃＋反射電子トラップ、またはボンバード蒸着減により、低温・低ダメージ蒸着が可能。特にレジストを用いるリフトオフ蒸着に有効。
・アルミの安定蒸着ができ、繰り返し使用できるライナーもご提供。
※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【オプション例】
・反射電子抑制ユニット
・基板加熱
・基板冷却（低温成膜）
・基板回転機構
・プラネタリー回転機構
・膜厚コントローラー（自動成膜）
・ロードロック機構
※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
| 価格情報 | お問い合わせください。 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※ 配送地域により変動がございますので、お気軽にお問い合わせください。 |
| 型番・ブランド名 | BS series |
| 用途／実績例 | 【用途】 MEMS/パワーデバイス/LED/各種電子部品等の電極膜(Al,Au,Pt,Ni,Ti,Cr等)、光学薄膜向け金属酸化膜 |
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