ブルカージャパン株式会社

オプティクス事業部

Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析

最終更新日: 2021/08/10
【無料プレゼント】MIRS法を応用した新たなアプローチである製品をご紹介

シリコンウェハー (Si ウェハー)表面の特性は、材料としての機能性に
大きく影響し、とくにウェハー表面に形成される各種薄膜の化学的評価が
ますます重要となっています。

当資料で紹介する「Wafer ATR」は、いわゆるMIRS法を応用した新たな
アプローチであり、フランス原子力庁電子情報研究所CEA-Letiの
グループとの研究成果を製品化したものです。

【掲載内容】
■はじめに
■Wafer ATR(ウェハーATR)
 ・多重内部反射による感度の向上
 ・測定時の必要事項
■測定例
■判別分析
■まとめ
■参考文献

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

【製品特長】
<ハイエンドFT-IR:VERTEX シリーズ>
■最大限の柔軟性を持つよう設計
■アップグレードが可能な光学プラットフォームで構成

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価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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