半導体関連装置 一覧
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パソコンや電化製品の核となる半導体にも、ダルトンの技術が活きています。前工程の洗浄装置を中心に、安全性と機能性を兼ね備え、充実したラインナップで提供しています。
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ボンベ真空加熱炉
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半導体製造工程などで使用する高純度ガスボンベ内に付着している不純物を除去する装置です。
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最終更新日:2024-12-23 15:26:49.0
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HFEベーパー乾燥装置
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安全性を十分考慮した製品
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最終更新日:2024-12-23 15:28:15.0
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薬液供給・回収装置
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薬液供給装置・薬液回収装置
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最終更新日:2024-12-23 15:26:04.0
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ポーラスシリコン形成装置(陽極酸化装置)
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従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・電流密度により多孔質シリコンウエハーが形成されます。
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最終更新日:2024-12-23 15:28:46.0
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治具洗浄装置
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カセットや石英治具等、あらゆる治具の洗浄をご相談に応じて設計製作します。ステンレス製も可能です
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最終更新日:2024-12-23 15:25:14.0
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レジスト剥離洗浄装置 ※テスト可能機種あり
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循環方式が多彩なウェットプロセス洗浄装置
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最終更新日:2024-12-23 15:28:25.0
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ウエハー洗浄装置(バッチ式)※テスト可能機種あり
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ウェットエッチングによる、コストダウンに配慮した仕様をご提案します。
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最終更新日:2024-12-23 15:26:14.0
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リフトオフ装置 ※テスト可能機種あり
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枚葉式・バッチ式のラインナップから、各工程及び仕様を選択し装置をカスタマイズ致します
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最終更新日:2024-12-23 15:24:34.0
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キャリアストッカー
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キャリアをそのまま又はケースに入れた状態で保管
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最終更新日:2024-12-23 15:24:48.0
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ウエハー洗浄装置(スピン式)※テスト可能機種あり
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生産規模に応じて複数チャンバーに対応。ウエハーの均一なエッチングを実現します。
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最終更新日:2024-12-23 15:26:28.0
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コンベア式エッチング装置
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お客様のご要望に沿ったカスタマイズ仕様。実験機から生産機まで対応可能です。
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最終更新日:2024-12-23 15:26:39.0
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ドラフトチャンバー(機器組込み型)
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ワークや用途に応じた仕様にカスタマイズが可能です。
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最終更新日:2024-12-23 15:25:39.0
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石英管洗浄装置
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カセットや石英治具等、あらゆる治具の洗浄をご相談に応じて設計製作します。ステンレス製も可能です
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最終更新日:2024-12-23 15:25:24.0
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手動陽極酸化装置
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従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・電流密度により多孔質シリコンウエハーが形成されます。
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最終更新日:2024-12-23 15:28:56.0
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スピンドライヤー
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1キャリアから4キャリア処理まで対応可能
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最終更新日:2024-12-23 15:29:08.0
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レチクルキャリアストッカー
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レチクルをステッパー用ケースに入れた状態で保管
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最終更新日:2024-12-23 15:27:13.0
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石英管保管庫
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石英管や治具を安全に保管
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最終更新日:2024-12-23 15:25:02.0
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薬品保管庫
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クリーンルームに対応した排気機能付き薬品保管庫
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最終更新日:2024-04-16 11:35:10.0
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【半導体製造装置向け】排ガス処理装置(スクラバー)
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排ガス・風量に応じた室内型スクラバーを装着することにより、排ガス処理設備が無い場所でも、安全な運転環境を実現できます。
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最終更新日:2024-10-30 09:45:53.0
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溶剤再生装置(連続式)
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廃溶剤を気化、再び液化して回収をする蒸留再生システム
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最終更新日:2024-12-23 15:25:48.0
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バッチ式溶剤再生装置
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廃溶剤を気化、再び液化して回収をする蒸留再生システム
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最終更新日:2024-12-23 15:27:24.0
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スピンコーター組込みドラフトチャンバー
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ミカサ社製スピンコーターを組み込んだドラフトチャンバーです。
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最終更新日:2024-12-23 15:28:03.0
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FOUP洗浄装置
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特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です。
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最終更新日:2024-12-23 15:24:20.0
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