HFEベーパー乾燥装置安全性を十分考慮した製品
ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。
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【特長】
■ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。
■各基板の全面に、均一にHFE ベーパーが凝縮する為、全ての基板において均一な乾燥処理を行うことができます。
■石英槽ですので金属溶質も有りません。
■ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。
■各基板の全面に、均一にHFE ベーパーが凝縮する為、全ての基板において均一な乾燥処理を行うことができます。
■石英槽ですので金属溶質も有りません。
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| 用途／実績例 | 半導体製造工程、電子材料製造工程、等 |
関連ダウンロード
HFEベーパー乾燥装置
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株式会社ダルトン
