『XDV-μ SEMI』は、微小部膜厚測定にすぐれたエネルギー分散型
蛍光X線測定装置です。
当製品の測定では、信頼性のある高精度な測定が可能なため、ナノスケールの
UBMメッキ、C4はんだバンプ、鉛フリーはんだ銅柱、極小ランディングパッドや
2.5D/3Dパッケージソリューションなどの膜厚測定と組成分析ができます。
【特長】
■自動化による安全性
■お客様に合わせたカスタマイズが可能
■きめ細やかなユーザビリティとメンテナンス性
■別々の端末で構成されているため操作がしやすい
■クリーンルーム環境にも適用
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【仕様(抜粋)】
■ウェハー供給部:BOLTS互換のロードポート搭載し、様々なSEMI規格のウェハーポッドに適用
■ロボット:信頼性の高い4軸、サーボ駆動
■エンドエフェクタ:標準吸引式エンドエフェクタ
■位置決め:回転軸およびリニア軸によるアライメントステーション
■X線検出器:シリコンドリフト検出器(SDD)
■X線管球:マイクロフォーカスチューブ
■プライマリフィルター:4種類
■X線集光:ポリキャピラリ―
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【用途例】 ■ナノスケールのUBMメッキ ■C4ハンダバンプ ■極小ランディングパッドや2.5D/3Dパッケージソリューション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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