耐環境性に優れたTa2Nx（窒化タンタル）材を基に特殊膜処理技術により、従来では見られない極小抵抗温度係数（極小TCR)を実現
レーザートリミング技術との併用でＤＣから高周波まで使用可能な超高精度抵抗体の製品を提供致します。
【特徴】
○耐環境性に優れたTa2Nx（窒化タンタル）材を基に特殊膜処理技術により、従来には見られない極小抵抗温度係数(極小TCR)を実現
○抵抗器の種類：種々の抵抗体を作製可能
・回路構成用抵抗 チップ抵抗（SMD）・ネットワーク抵抗
・その他W/Bタイプ、半田付けタイプ、半田バンプタイプ等にも対応
○基板材料：
・アルミナ基板(純度99.5%、99.9%)
・その他(別途ご相談)
○導体の膜構成
・Ti/Pd/Au
・Ti/Pd/Cu/Ni/Au
・Ti/Pt/Au
●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
弊社は、セラミックス基板をベースにした薄膜集積回路のパターン形成をはじめ、成膜、ダイシングに至るまで一貫した製造設備を備え、各種回路のご要求に応じております。スパッタ装置、蒸着装置、ドライエッチング装置等を備え、量産体制も整っております。また、開発・研究に関わる各種回路についても技術面や納期面等の様々なご要望に応じております。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | 超高精度薄膜抵抗器 |
| 用途／実績例 |
主な用途：各種アッテネーター 、各種終端器、各種デバイダー、薄膜増幅器回路基板のゲイン調整用抵抗等 |
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日本ファインセラミックス株式会社
