-
- マルチチャンバスパッタリング装置
- 20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド・ニッチプロセスへ個別対応のプロセス&ハードウェア
- 最終更新日:2020-05-08 15:23:34.0
-
- 真空排気装置(真空ポンプユニット)
- 実績と信頼の排気系ユニット。単一のポンプでは困難な用途に対応。目的に合わせた組合せと周辺機器付属でさらに信頼性を向上。
- 最終更新日:2023-11-24 10:16:25.0
-
- 枚葉式プラズマエッチング装置「EXAM-Σ」
- ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや両面処理に、コンパクトタイプCtoCエッチング装置
- 最終更新日:2020-04-24 14:09:11.0
-
- AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置)
- UV-LED用AlNテンプレートをスパッタで。高い結晶性とC軸配向性を持つAlN膜をスパッタで作成可能。最新型成膜装置
- 最終更新日:2020-04-28 14:21:35.0
-
- 量産用真空半田付装置(蟻酸対応タイプ)
- ボイドレス半田付のスタンダード装置。車載用パワーデバイスモジュールを支える実績と信頼のハード&ソフト
- 最終更新日:2020-05-12 13:47:32.0
-
- ロードロックタイプスパッタリング装置(枚葉搬送タイプ)デモ対応中
- ディスクリート素子から先端デバイスまで、R&Dに量産に。コンパクト、ハイクオリティ、多用途対応のCtoCタイプスパッタリング装置
- 最終更新日:2020-05-13 09:36:32.0
-
- ハイブリッド硬質膜コーティング装置(DLCーCVD+PVD装置)
- CVD-DLCと硬質膜用PVDの複合型コーティング装置。スムースサーフェスのPVD膜+ハイレートDLC。硬度+トライボロジー薄膜
- 最終更新日:2020-04-13 14:23:00.0
-
- 赤外線反射防止膜用DLCコーティング装置
- 高い赤外線透過率をもつDLC膜をハイレートで基板両面に形成。 安定のハードと先進のソフトで次世代のIRコーティングを実現
- 最終更新日:2020-04-07 14:51:18.0
-
- 標準バッチバッチタイプ蒸着装置(AMFシリーズ)
- 電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。R&D用の多目的小型研究用から実績豊富な裏面電極用量産用まで、信頼と充実のラインナップ
- 最終更新日:2020-03-25 13:41:40.0
-
- 撥水コーティング装置 テスト受付中
- プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプルテストで開発サポート。コンパクトタイププラズマ表面処理装置
- 最終更新日:2021-06-24 15:30:37.0
-
- 大型真空オーブン
- 高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱 乾燥・脱ガス・ベーキング・アニール 多用途対応の量産型真空オーブン
- 最終更新日:2020-06-04 16:25:48.0
-
- 水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)
- 大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、豊富な経験と実績を柔軟なハード対応とサンプルテストで提供
- 最終更新日:2020-04-30 09:26:48.0
-
- 量産用プラズマクリーニング装置(大型プラズマクリーナー)
- 自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成の実績豊富な各タイプ 眞空プラズマの高い効果を量産ラインに
- 最終更新日:2020-09-04 10:23:58.0
-
- イットリアコーティング装置(AF-IP装置)
- 耐プラズマ性に優れたイットリア(Y2O3)膜をPVD法で形成。 新開発イオンプレーティング法で厚膜(10μm)を実現
- 最終更新日:2020-04-06 14:06:53.0
-
- 簡易実験用スパッタリング装置(SRV3100型)
- 小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置 全手動操作で低コスト化を実現。研究実験専用の標準タイプ
- 最終更新日:2019-12-13 16:10:14.0
-
- 簡易実験用蒸着装置(EM-645型)
- シンプル コンパクト 高機能 実験、基礎研究に最適 ユーザーニーズに応じた柔軟にカスタマイズ 標準型蒸着装置
- 最終更新日:2019-12-13 14:19:46.0
-
- 大型蒸着装置(AAH型 自動車部品用)
- 樹脂外装品の成膜に実績豊富な大型蒸着装置 長尺樹脂成形品の成膜に最適 樹脂メタライズ・不連続膜形成 自動車部品の量産用標準型
- 最終更新日:2019-12-09 13:09:31.0
-
- アークフィラメント式イオンプレーティング装置
- 緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 CVD代替高密度イオンプレーティング装置
- 最終更新日:2020-04-06 14:05:03.0
-
- 量産対応バッチタイプスパッタリング装置 (STH10311型)
- φ410基板×4枚の自公転基板台を4枚備えたバッチ型のスパッタリング装置で、同基板台内±5%以内の優れた膜厚均一性を実現
- 最終更新日:2019-12-12 14:30:10.0
-
- 超高真空スパッタリング装置(STM2323型)
- 先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空インラインシステム。豊富なオプションと柔軟な対応で要求に対応
- 最終更新日:2020-02-11 16:04:43.0
-
- SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置)
- サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先端機能材料の開発~量産に対応。デモ機でプロセスサポート。
- 最終更新日:2020-05-13 09:34:23.0
-
- バッチタイプSWPアッシング装置
- ダメージレス、ハイレート、大面積対応、イオンダメージを完全除去、完全ラジカル処理を実現。高性能プラズマアッシング装置
- 最終更新日:2019-08-07 11:17:59.0
-
- 研究開発用スパッタリング装置
- コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装置 サンプルテスト&装置見学対応中
- 最終更新日:2019-12-16 11:43:20.0
-
- プラズマエッチング装置「EXAM」サンプルテスト受付中
- コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテスト対応によるプロセスサポートが特徴のプラズマエッチング装置
- 最終更新日:2020-05-13 10:46:03.0
-
- 標準バッチタイプスパッタリング装置(SRVシリーズ)
- 多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ
- 最終更新日:2020-02-11 16:02:29.0
-
- 縦型真空アニール装置
- ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキュア ミニバッチ+急速冷却機構でハイスループット対応
- 最終更新日:2019-08-06 15:43:52.0
-
- ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置)
- 300mmウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基板にも対応。先端電子デバイス量産用熱処理装置
- 最終更新日:2020-09-04 10:25:00.0
-
- 横型蒸着装置
- 両面成膜・端面成膜・コンパクト・大量バッチ処理。基板の自公転機構が蒸着面の制御を可能に。水晶振動子、薄膜抵抗に独自プロセスを提供
- 最終更新日:2020-04-14 11:02:40.0
-
- プラズマクリーニング装置「POEM」(プラズマクリーナー)
- 多機能型プラズマクリーニング装置。 サンプルテスト受付中 クリーニング・親水化対応、半田濡れ性向上、実装前処理に最適
- 最終更新日:2020-02-14 11:52:05.0
-
- バッチ式真空半田付装置(フラックスレスリフロー 真空リフロー)
- パワーモジュールからウェハバンプまでフラックスレス・ボイドレスリフローを実現。新型登場でグレードUP! ※サンプルテスト対応中
- 最終更新日:2020-05-11 16:00:04.0