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- 表面処理用多目的スパッタリング装置 STV6301型
- 立体形状部品や外周全面や平板基板の両面、立体形状の成膜に特化した表面処理用多目的スパッタリング装置。タンブラーの内面も成膜OK
- 最終更新日：2023-05-26 09:50:21.0
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- プラズマ溶岩コーティング装置（STV6301スパッタリング装置）
- 最新プラズマ技術で桜島溶岩をコーティング。天然由来の機能性表面処理。あらゆる機材に諸植生・親水性など新たな機能を実現。
- 最終更新日：2023-05-10 11:21:48.0
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- 真空はんだ付け装置（真空リフロー装置）
- インターネプコンにも出展！大型製品にも対応した新製品のご紹介 ＜サンプルテスト受付中＞
- 最終更新日：2022-12-27 12:52:33.0
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- Φ300mm基板対応 ロードロック式スパッタリング装置
- 大型基板の自動搬送に対応し、研究開発～量産までの応用が可能な装置です。貴社のご要望に合わせた設計対応を致します。
- 最終更新日：2024-03-01 16:21:01.0
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- Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置
- 新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜のエッチングに対応。大面積化も容易な新型エッチング装置.
- 最終更新日：2022-07-19 14:44:24.0
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- 金属ナノペースト焼結接合対応真空半田付装置
- 神港精機の真空半田付装置に新型登場 優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制御性で金属焼結接合を高品質化 次世代型高信頼性燒結接合装置
- 最終更新日：2022-06-01 15:41:55.0
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- 大型プラズマエッチング装置
- ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイプエッチング装置。 半導体製造装置部品・材料にも対応
- 最終更新日：2022-06-03 15:37:04.0
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- 水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）
- 独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優れた油中トライボロジー特性、導電性カーボン薄膜にも対応
- 最終更新日：2021-12-13 16:39:41.0
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- 水素プラズマクリーニング装置（イオンクリーニングタイプ）
- H2（水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効果で親水性・濡れ性向上。ドライ・常温処理の新表面洗浄技術
- 最終更新日：2021-11-25 14:55:19.0
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- ALNコーティング装置（高密度プラズマスパッタADMS装置）
- 高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティングに対応。全自動量産型装置ラインナップ。
- 最終更新日：2021-11-24 11:28:01.0
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- 大気非暴露型多元スパッタ装置
- 硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜テスト、専用装置まで一括対応。グローブボックス標準装備。
- 最終更新日：2021-09-29 14:04:54.0
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- R%D用マルチチャンバスパッタリング装置
- R&Dやニッチプロセスへの対応に特化 量産用装置では困難な少量生産や試作・研究開発のための新型マルチチャンバスパッタリング装置
- 最終更新日：2021-06-10 15:03:07.0
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- HCD型高密度プラズマエッチング装置
- シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓｉ系、メタル、有機膜、各種薄膜のダメージレスエッチング
- 最終更新日：2022-01-13 09:12:49.0
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- 水素雰囲気コンベア炉（還元雰囲気連続熱処理装置）
- 豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子燒結接合工程を実績のソフトと信頼性の高いハードでサポート
- 最終更新日：2020-09-03 11:57:08.0
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- 側面電極用イオンプレーティング装置（面実装小型部品対応）
- 小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプレーティング装置）だから可能な小型部品対応の端面電極成膜。
- 最終更新日：2020-09-03 13:00:32.0
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- 導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）
- 導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性ガスとカーボンターゲットのシンプルプロセスで安定成膜
- 最終更新日：2020-09-03 13:05:57.0
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- 横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）
- 小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセスにもウェハプロセス（合金化や電極アニール）にも対応。
- 最終更新日：2023-02-20 11:42:32.0
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- ＳｉＣコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）
- 緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤで形成。新型イオンプレーティング法で厚膜（７μｍ）形成
- 最終更新日：2020-06-22 16:26:58.0
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- 【化学業界向け】ドライ真空ポンプ
- 水封式真空ポンプからの置換えに適したタフなドライ真空ポンプ
- 最終更新日：2023-11-07 17:00:10.0
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- ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）
- 熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩素系ガスへの対応を両立。ガス処理も併用する信頼のシステム
- 最終更新日：2020-06-15 13:44:08.0
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- 【化学業界向け】水封式真空ポンプ（ステンレス製）
- ステンレス製（SUS316相当）の水封式真空ポンプで腐食性ガスへ対応
- 最終更新日：2023-11-09 09:12:47.0
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- 【真空焼結炉向け】ドライポンプ（ドライ真空ポンプ）
- 油回転真空ポンプからの置き換えに最適なドライポンプ
- 最終更新日：2023-11-24 11:01:07.0
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- 真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）
- 急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングなど低温熱処理に最適なコンパクト型真空熱処理装置
- 最終更新日：2020-05-19 10:02:04.0
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- 化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）
- 化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのアニール装置。高温処理型で急冷機構装備。透明電極膜にも対応
- 最終更新日：2023-02-20 11:50:14.0
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- 封液循環型 水封式真空ポンプ SW-S/AS-Cシリーズ
- 有害物の流出を防ぐ封液循環型の水封式真空ポンプ
- 最終更新日：2023-11-09 10:58:53.0
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- 化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）
- 先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面を実現。超高真空対応のハードが実現する高品質電極膜
- 最終更新日：2020-05-14 12:01:58.0
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- 硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）
- 最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロードロックタイプぷで高温成膜でもハイスループット。
- 最終更新日：2020-05-26 09:36:02.0
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- ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）
- 非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付加価値金型のリペアに必須のドライ除膜装置
- 最終更新日：2020-06-23 13:41:57.0
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- 枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）
- ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物半導体・ＭＥＭＳ。幅広い実績と充実のサポート。新タイプ登場
- 最終更新日：2020-05-12 15:21:01.0
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- 【耐食性】水封式真空ポンプ SW-ASシリーズ（ステンレス製）
- 耐食性に優れるステンレス製（SUS316相当）の水封式真空ポンプ
- 最終更新日：2023-11-09 09:32:40.0
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神港精機株式会社 東京支店
