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- 表面処理用多目的スパッタリング装置 STV6301型
- 立体形状部品や外周全面や平板基板の両面、立体形状の成膜に特化した表面処理用多目的スパッタリング装置。タンブラーの内面も成膜OK
- 最終更新日：2023-05-26 09:50:21.0
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- プラズマ溶岩コーティング装置（STV6301スパッタリング装置）
- 最新プラズマ技術で桜島溶岩をコーティング。天然由来の機能性表面処理。あらゆる機材に諸植生・親水性など新たな機能を実現。
- 最終更新日：2023-05-10 11:21:48.0
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- 真空はんだ付け装置（真空リフロー装置）
- インターネプコンにも出展！大型製品にも対応した新製品のご紹介 ＜サンプルテスト受付中＞
- 最終更新日：2022-12-27 12:52:33.0
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- Φ300mm基板対応 ロードロック式スパッタリング装置
- 大型基板の自動搬送に対応し、研究開発～量産までの応用が可能な装置です。貴社のご要望に合わせた設計対応を致します。
- 最終更新日：2024-03-01 16:21:01.0
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- Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置
- 新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜のエッチングに対応。大面積化も容易な新型エッチング装置.
- 最終更新日：2022-07-19 14:44:24.0
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- 金属ナノペースト焼結接合対応真空半田付装置
- 神港精機の真空半田付装置に新型登場 優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制御性で金属焼結接合を高品質化 次世代型高信頼性燒結接合装置
- 最終更新日：2022-06-01 15:41:55.0
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- 大型プラズマエッチング装置
- ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイプエッチング装置。 半導体製造装置部品・材料にも対応
- 最終更新日：2022-06-03 15:37:04.0
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- 水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）
- 独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優れた油中トライボロジー特性、導電性カーボン薄膜にも対応
- 最終更新日：2021-12-13 16:39:41.0
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- 水素プラズマクリーニング装置（イオンクリーニングタイプ）
- H2（水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効果で親水性・濡れ性向上。ドライ・常温処理の新表面洗浄技術
- 最終更新日：2021-11-25 14:55:19.0
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- ALNコーティング装置（高密度プラズマスパッタADMS装置）
- 高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティングに対応。全自動量産型装置ラインナップ。
- 最終更新日：2021-11-24 11:28:01.0
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- 大気非暴露型多元スパッタ装置
- 硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜テスト、専用装置まで一括対応。グローブボックス標準装備。
- 最終更新日：2021-09-29 14:04:54.0
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- R%D用マルチチャンバスパッタリング装置
- R&Dやニッチプロセスへの対応に特化 量産用装置では困難な少量生産や試作・研究開発のための新型マルチチャンバスパッタリング装置
- 最終更新日：2021-06-10 15:03:07.0
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- HCD型高密度プラズマエッチング装置
- シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓｉ系、メタル、有機膜、各種薄膜のダメージレスエッチング
- 最終更新日：2022-01-13 09:12:49.0
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- 水素雰囲気コンベア炉（還元雰囲気連続熱処理装置）
- 豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子燒結接合工程を実績のソフトと信頼性の高いハードでサポート
- 最終更新日：2020-09-03 11:57:08.0
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- 側面電極用イオンプレーティング装置（面実装小型部品対応）
- 小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプレーティング装置）だから可能な小型部品対応の端面電極成膜。
- 最終更新日：2020-09-03 13:00:32.0
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- 導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）
- 導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性ガスとカーボンターゲットのシンプルプロセスで安定成膜
- 最終更新日：2020-09-03 13:05:57.0
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- 横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）
- 小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセスにもウェハプロセス（合金化や電極アニール）にも対応。
- 最終更新日：2023-02-20 11:42:32.0
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- ＳｉＣコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）
- 緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤで形成。新型イオンプレーティング法で厚膜（７μｍ）形成
- 最終更新日：2020-06-22 16:26:58.0
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- 【化学業界向け】ドライ真空ポンプ
- 水封式真空ポンプからの置換えに適したタフなドライ真空ポンプ
- 最終更新日：2023-11-07 17:00:10.0
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- ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）
- 熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩素系ガスへの対応を両立。ガス処理も併用する信頼のシステム
- 最終更新日：2020-06-15 13:44:08.0
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- 【化学業界向け】水封式真空ポンプ（ステンレス製）
- ステンレス製（SUS316相当）の水封式真空ポンプで腐食性ガスへ対応
- 最終更新日：2023-11-09 09:12:47.0
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- 【真空焼結炉向け】ドライポンプ（ドライ真空ポンプ）
- 油回転真空ポンプからの置き換えに最適なドライポンプ
- 最終更新日：2023-11-24 11:01:07.0
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- 真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）
- 急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングなど低温熱処理に最適なコンパクト型真空熱処理装置
- 最終更新日：2020-05-19 10:02:04.0
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- 化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）
- 化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのアニール装置。高温処理型で急冷機構装備。透明電極膜にも対応
- 最終更新日：2023-02-20 11:50:14.0
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- 封液循環型 水封式真空ポンプ SW-S/AS-Cシリーズ
- 有害物の流出を防ぐ封液循環型の水封式真空ポンプ
- 最終更新日：2023-11-09 10:58:53.0
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- 化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）
- 先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面を実現。超高真空対応のハードが実現する高品質電極膜
- 最終更新日：2020-05-14 12:01:58.0
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- 硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）
- 最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロードロックタイプぷで高温成膜でもハイスループット。
- 最終更新日：2020-05-26 09:36:02.0
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- ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）
- 非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付加価値金型のリペアに必須のドライ除膜装置
- 最終更新日：2020-06-23 13:41:57.0
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- 枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）
- ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物半導体・ＭＥＭＳ。幅広い実績と充実のサポート。新タイプ登場
- 最終更新日：2020-05-12 15:21:01.0
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- 【耐食性】水封式真空ポンプ SW-ASシリーズ（ステンレス製）
- 耐食性に優れるステンレス製（SUS316相当）の水封式真空ポンプ
- 最終更新日：2023-11-09 09:32:40.0
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- マルチチャンバスパッタリング装置
- 20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド・ニッチプロセスへ個別対応のプロセス＆ハードウェア
- 最終更新日：2020-05-08 15:23:34.0
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- 真空排気装置（真空ポンプユニット）
- 実績と信頼の排気系ユニット。単一のポンプでは困難な用途に対応。目的に合わせた組合せと周辺機器付属でさらに信頼性を向上。
- 最終更新日：2023-11-24 10:16:25.0
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- 枚葉式プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ－Σ」
- ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや両面処理に、コンパクトタイプＣｔｏＣエッチング装置
- 最終更新日：2020-04-24 14:09:11.0
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- ＡｌＮテンプレート作成装置（配向性ＡｌＮ膜用スパッタリング装置）
- ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜をスパッタで作成可能。最新型成膜装置
- 最終更新日：2020-04-28 14:21:35.0
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- 量産用真空半田付装置（蟻酸対応タイプ）
- ボイドレス半田付のスタンダード装置。車載用パワーデバイスモジュールを支える実績と信頼のハード＆ソフト
- 最終更新日：2020-05-12 13:47:32.0
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- ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中
- ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハイクオリティ、多用途対応のＣｔｏＣタイプスパッタリング装置
- 最終更新日：2020-05-13 09:36:32.0
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- ハイブリッド硬質膜コーティング装置（ＤＬＣーＣＶＤ＋ＰＶＤ装置）
- ＣＶＤ－ＤＬＣと硬質膜用ＰＶＤの複合型コーティング装置。スムースサーフェスのＰＶＤ膜＋ハイレートＤＬＣ。硬度＋トライボロジー薄膜
- 最終更新日：2020-04-13 14:23:00.0
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- 赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置
- 高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。 安定のハードと先進のソフトで次世代のＩＲコーティングを実現
- 最終更新日：2020-04-07 14:51:18.0
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- 標準バッチバッチタイプ蒸着装置（ＡＭＦシリーズ）
- 電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から実績豊富な裏面電極用量産用まで、信頼と充実のラインナップ
- 最終更新日：2020-03-25 13:41:40.0
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- 撥水コーティング装置 テスト受付中
- プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプルテストで開発サポート。コンパクトタイププラズマ表面処理装置
- 最終更新日：2021-06-24 15:30:37.0
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- 大型真空オーブン
- 高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱 乾燥・脱ガス・ベーキング・アニール 多用途対応の量産型真空オーブン
- 最終更新日：2020-06-04 16:25:48.0
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- 水素アニール装置（電子デバイス用、サンプルテスト対応中）
- 大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、豊富な経験と実績を柔軟なハード対応とサンプルテストで提供
- 最終更新日：2020-04-30 09:26:48.0
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- 量産用プラズマクリーニング装置（大型プラズマクリーナー）
- 自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成の実績豊富な各タイプ 眞空プラズマの高い効果を量産ラインに
- 最終更新日：2020-09-04 10:23:58.0
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- イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）
- 耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開発イオンプレーティング法で厚膜（１０μｍ）を実現
- 最終更新日：2020-04-06 14:06:53.0
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- 簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）
- 小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置 全手動操作で低コスト化を実現。研究実験専用の標準タイプ
- 最終更新日：2019-12-13 16:10:14.0
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- 簡易実験用蒸着装置（ＥＭ－６４５型）
- シンプル コンパクト 高機能 実験、基礎研究に最適 ユーザーニーズに応じた柔軟にカスタマイズ 標準型蒸着装置
- 最終更新日：2019-12-13 14:19:46.0
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- 大型蒸着装置（ＡＡＨ型 自動車部品用）
- 樹脂外装品の成膜に実績豊富な大型蒸着装置 長尺樹脂成形品の成膜に最適 樹脂メタライズ・不連続膜形成 自動車部品の量産用標準型
- 最終更新日：2019-12-09 13:09:31.0
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- アークフィラメント式イオンプレーティング装置
- 緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載 ＣＶＤ代替高密度イオンプレーティング装置
- 最終更新日：2020-04-06 14:05:03.0
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- 量産対応バッチタイプスパッタリング装置 （STH10311型）
- φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装置で、同基板台内±５％以内の優れた膜厚均一性を実現
- 最終更新日：2019-12-12 14:30:10.0
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- 超高真空スパッタリング装置（STM2323型）
- 先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空インラインシステム。豊富なオプションと柔軟な対応で要求に対応
- 最終更新日：2020-02-11 16:04:43.0
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- SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）
- サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先端機能材料の開発～量産に対応。デモ機でプロセスサポート。
- 最終更新日：2020-05-13 09:34:23.0
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- バッチタイプＳＷＰアッシング装置
- ダメージレス、ハイレート、大面積対応、イオンダメージを完全除去、完全ラジカル処理を実現。高性能プラズマアッシング装置
- 最終更新日：2019-08-07 11:17:59.0
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- 研究開発用スパッタリング装置
- コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装置 サンプルテスト＆装置見学対応中
- 最終更新日：2019-12-16 11:43:20.0
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- プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」サンプルテスト受付中
- コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテスト対応によるプロセスサポートが特徴のプラズマエッチング装置
- 最終更新日：2020-05-13 10:46:03.0
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- 標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）
- 多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ
- 最終更新日：2020-02-11 16:02:29.0
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- 縦型真空アニール装置
- ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキュア ミニバッチ＋急速冷却機構でハイスループット対応
- 最終更新日：2019-08-06 15:43:52.0
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- ポリイミドキュア装置（３００ｍｍウェハ対応 クリーンベーク装置）
- ３００ｍｍウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基板にも対応。先端電子デバイス量産用熱処理装置
- 最終更新日：2020-09-04 10:25:00.0
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- 横型蒸着装置
- 両面成膜・端面成膜・コンパクト・大量バッチ処理。基板の自公転機構が蒸着面の制御を可能に。水晶振動子、薄膜抵抗に独自プロセスを提供
- 最終更新日：2020-04-14 11:02:40.0
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- プラズマクリーニング装置「POEM」（プラズマクリーナー）
- 多機能型プラズマクリーニング装置。 サンプルテスト受付中 クリーニング・親水化対応、半田濡れ性向上、実装前処理に最適
- 最終更新日：2020-02-14 11:52:05.0
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- バッチ式真空半田付装置（フラックスレスリフロー 真空リフロー）
- パワーモジュールからウェハバンプまでフラックスレス・ボイドレスリフローを実現。新型登場でグレードＵＰ！ ※サンプルテスト対応中
- 最終更新日：2020-05-11 16:00:04.0
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