上位機種と同等の高い洗浄性能が得られます。
■「試作開発」「手洗い洗浄の代替」「省力化」「品質向上」等に最適です。
■手洗い洗浄とは異なり、ばらつきの無いハイレベルな表面品質が得られます。
■基盤品質Upと洗浄作業費削減の両立を達成
◎例えば、4台の卓上洗浄機を人工代の安い1人の作業者で運用処理
■Si、SiC、GaN、サファイア、GaAs、LT等の処理に最適
■丸形状基板は勿論、Crマスク等の角形状にも対応
◎Maxサイズ：Φ20mm、6インチ角
■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」
◎スクラブや2流体処理時には、スキャン旋回機能が標準搭載。
◎DIW2流体ツールで、優れたパーティクル除去性能
◎ナイロン刷毛ブラシ or PVAブラシを基板表面状態に応じて選択
■<洗剤の自動希釈ユニット>や<CO2イオナイザー>のオプション選択が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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