RCAは勿論、現像、エッチング、洗浄、剥離、リフトオフなど！各種プロセス処理に対応実績多数
当装置は、薬液の完全分離・再利用を達成し、薬液処理⇒リンス⇒乾燥の
フルプロセスをワンスピン処理可能なマニュアルSpin枚葉処理装置です。
フットプリントやコストの大幅な削減ができ、《特許取得成立済み》
丸形状の基板は勿論、角形状基板にも対応可能。
「RCA」は勿論、「現像」「エッチング」「洗浄」「剥離」「リフトオフ」
と言った各種プロセス処理に対応実績多数です。
【特長】
■洗浄やエッチング等多種の薬液処理プロセスを一つの
トータルシステムに纏める事が可能
■大幅な装置購入コストやフットプリント低減ができる
■チャンバー間の移送が不要な為、ワーク着脱削減・省力化により
ワーク搬送事故を防止でき搬送信頼性が向上
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ剥離装置、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機
【その他特長】
■分離再利用機能を持つ薬液処理を下段で、リンス乾燥処理を上段処理を基本
■当社オリジナル・特許取得済みの「遮断分離機能」により、上段のリンス水が下段の
ケミカルチャンバーへの落下を防止し、薬液の循環再利用が可能
■上段でのリンス/乾燥処理時には下段の薬液雰囲気を物理的に遮断できるので、
パーティクルは勿論、薬液Gasの基板付着/吸着が抑制遮断され良好な基板品質が得られる
■人体や環境面への安全は勿論、装置への汚染腐食等が抑制防止可能
■応用として例えば、下段部で下段部でSPM（酸）⇒上段でAPM（アルカリ）と言った
性状の異なる2薬液処理も1チャンバー処理でも実用化済み
■フットプリントやコスト面で大幅に寄与
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
■分離再利用機能を持つ薬液処理を下段で、リンス乾燥処理を上段処理を基本
■当社オリジナル・特許取得済みの「遮断分離機能」により、上段のリンス水が下段の
ケミカルチャンバーへの落下を防止し、薬液の循環再利用が可能
■上段でのリンス/乾燥処理時には下段の薬液雰囲気を物理的に遮断できるので、
パーティクルは勿論、薬液Gasの基板付着/吸着が抑制遮断され良好な基板品質が得られる
■人体や環境面への安全は勿論、装置への汚染腐食等が抑制防止可能
■応用として例えば、下段部で下段部でSPM（酸）⇒上段でAPM（アルカリ）と言った
性状の異なる2薬液処理も1チャンバー処理でも実用化済み
■フットプリントやコスト面で大幅に寄与
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| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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