ガラス基材で湿度影響を低減し、高い寸法安定性と解像性を実現。CSP、FC-CSP、薄膜チップ部品等に!
『フォトマスク‐エマルジョンマスク‐』は、基材がガラスなので
湿度影響を受けにくいことから、寸法安定性が高く解像性に優れています。
CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品や、その他各種パッケージ、
タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【仕様・規格(マスク)】
■最大マスクサイズ(mm):711×813×8t
■ガラス材質:ソーダライム(SL)
■膜質:銀塩ゼラチン乳剤
■膜厚(μm):5~6
■環境温度による影響:0.8μm/℃/100mm
■環境湿度による影響:なし
※上記は代表的なスペックです。
ご要望に応じて柔軟に対応しますので、是非ご相談ください。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
■最大マスクサイズ(mm):711×813×8t
■ガラス材質:ソーダライム(SL)
■膜質:銀塩ゼラチン乳剤
■膜厚(μm):5~6
■環境温度による影響:0.8μm/℃/100mm
■環境湿度による影響:なし
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価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 |
【用途】 ■CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品 その他各種パッケージ、タッチパネル形成用など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
関連ダウンロード
『エマルジョンマスク』電子部品向け(基板・MEMS)フォトマスク
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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竹田東京プロセスサービス株式会社