株式会社テクノメイト

CMPスラリー供給装置 P108

最終更新日: 2019-10-04 13:16:21.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

スラリー原液を希釈し研磨装置にスラリーを供給する装置です。
本装置はスラリー原液を希釈し研磨装置にスラリーを供給し、送液温度とpH値を制御
(オプション機能)するとともに、スラリー液を連続的に供給するための調合タンクと供給タンクを内蔵しています。


●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問合わせ下さい。

関連情報

CMPスラリー供給装置 P108
CMPスラリー供給装置 P108 製品画像

【仕様】
○周囲温度:20℃~25℃
○周囲湿度:55%±15
○供給電源:200℃
○必要給水量:3L/min
○エア消費量:110L/min

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  [必須]
ご要望  [必須]
目的  [必須]
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

株式会社テクノメイト

ページの先頭へ