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関連情報
セラミック アニロックスの常識を覆す新技術採用
CAE が開発したブラックパールセラミックコ－ティングアニロックス はセラミック アニロックスについての常識論を根本的に覆す事になる特許技術つまりeCell-HD 超高精細レーザー彫刻技術です。このコーティング プロセスは、CAE 社が標準的なプラズマコーティングのヘッドを独自 の設計によって改良し、セラミック溶射と BPCC のプロセスを完全に一体化した自動ロボットシステムによってセラミックオペレーターの熟練度に左右されない完璧なセル彫刻によるパターンを形成することが約束されます。
表面硬度は通常アニロックスのセラミックコーティングの場合ビッカース硬度が 1100 を下回るのは柔らか過ぎて不適とされ、反対に 1300 を超える硬度になるとセラミックの物理的特性が変化し、ややもろくなると考えられています。気孔率（％）はアニロックスロ－ル・スリ－ブの表面気孔率の望ましい目標値はアプリケーションによって0.5～1.0％と考えられております。このロックスは表面硬度1200～1350、気孔率0.5～1.0％とまさに理想的な領域で製造されています。
CAE が開発したブラックパールセラミックコ－ティングアニロックス はセラミック アニロックスについての常識論を根本的に覆す事になる特許技術つまりeCell-HD 超高精細レーザー彫刻技術です。このコーティング プロセスは、CAE 社が標準的なプラズマコーティングのヘッドを独自 の設計によって改良し、セラミック溶射と BPCC のプロセスを完全に一体化した自動ロボットシステムによってセラミックオペレーターの熟練度に左右されない完璧なセル彫刻によるパターンを形成することが約束されます。
表面硬度は通常アニロックスのセラミックコーティングの場合ビッカース硬度が 1100 を下回るのは柔らか過ぎて不適とされ、反対に 1300 を超える硬度になるとセラミックの物理的特性が変化し、ややもろくなると考えられています。気孔率（％）はアニロックスロ－ル・スリ－ブの表面気孔率の望ましい目標値はアプリケーションによって0.5～1.0％と考えられております。このロックスは表面硬度1200～1350、気孔率0.5～1.0％とまさに理想的な領域で製造されています。
フィルタ－エレメント式のろ過では、10ミクロン以下の炭素鋼微粒子を捕捉することができません。仮にメッシュを小さくすればすぐに目詰まりしたり流量・圧力不足となります。一方マグネット方式では磁力が遠くなるほど微弱になり、十分に捕捉できません。しかも高炭素鋼の汚染物質が、部品に流体が導入された近隣の柔らかい摩耗金属に埋め込まれてしまうことが観察されています。新開発のマグナムは従来のろ過方式による、これらの弱点を強力にカバ－し、脅威となる炭素鋼微粒子を含め汚染物質を確実にとらえます。しかも流体システムの流量・圧力は変わりません。導入による効果をすぐに実感できるでしょう。
気候変動対策の一環として水性フレキソ印刷の進化がグラビア印刷に比肩する高精細印刷を可能にした今、トルエンなどのVOC：揮発性有機化合物による環境負荷低減の要求に対する完璧な答えとなります。
ブラックパール（黒真珠) セラミック コーティング アニロックスとは、
■CAE社が開発した画期的なコーティング技術。
■同社が特許専有権取得した特殊粉体材料使用。
■セラミック加工と同期してロボットによる自動処理。
■まるで黒真珠の様な滑らかで高い硬度。
■ 微細気孔の発生を殆ど無視出来るレベルに到達。
■ 約10 年前にALE 社が提案していた eCell タイプ（細長い60度ハニカム構造）デザインの実用化に向けて開発。
■2000 件を超えるフィールドテストや実地の採用実績。
■CAE社が開発した画期的なコーティング技術。
■同社が特許専有権取得した特殊粉体材料使用。
■セラミック加工と同期してロボットによる自動処理。
■まるで黒真珠の様な滑らかで高い硬度。
■ 微細気孔の発生を殆ど無視出来るレベルに到達。
■ 約10 年前にALE 社が提案していた eCell タイプ（細長い60度ハニカム構造）デザインの実用化に向けて開発。
■2000 件を超えるフィールドテストや実地の採用実績。
【高精細ブラックパ－ルセラミックコーティングの全自動インキング】
これまで水性フレキソ印刷の課題だった低インク転写が 95～100％達成し、
しかも高精細印刷、インク代の節約とまだら効果防止可能です。
CAE 社が特許専有権を取得した特殊な粉体材料で、 セラミック加工と同期して自動処理できます。
■微細気孔の発生率は 0.5％以下
■インク転写率の向上（95～100％）によるインク代 20％以上削減可能
■自在なセルカスタマイズ
■洗浄効率が格段に向上、初期のアニロックスのスペック長期保存可能
■Esko HD 認定と Opaltone 認定取得による確かな高品質
【洗浄システム】
10 年経っても新品と変わらぬ性能で、滑らかで光沢のある表面を保ち続けます。
従来のアルミ製チャンバーとの交換も簡単で、どの印刷機にも問題なく設置出来ます。
■軽量でありながら高い剛性
■全体が構造用カーボン素材と SUS の部品のみで構成
■長年の過酷な環境下でも変わらぬ性能を維持
これまで水性フレキソ印刷の課題だった低インク転写が 95～100％達成し、
しかも高精細印刷、インク代の節約とまだら効果防止可能です。
CAE 社が特許専有権を取得した特殊な粉体材料で、 セラミック加工と同期して自動処理できます。
■微細気孔の発生率は 0.5％以下
■インク転写率の向上（95～100％）によるインク代 20％以上削減可能
■自在なセルカスタマイズ
■洗浄効率が格段に向上、初期のアニロックスのスペック長期保存可能
■Esko HD 認定と Opaltone 認定取得による確かな高品質
【洗浄システム】
10 年経っても新品と変わらぬ性能で、滑らかで光沢のある表面を保ち続けます。
従来のアルミ製チャンバーとの交換も簡単で、どの印刷機にも問題なく設置出来ます。
■軽量でありながら高い剛性
■全体が構造用カーボン素材と SUS の部品のみで構成
■長年の過酷な環境下でも変わらぬ性能を維持
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