株式会社テクノビジョン 本社

マスク洗浄機|全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

最終更新日: 2023-05-09 16:48:15.0

  • カタログ

マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去

TWC-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。
本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。
特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮しました。
オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけ。
危険な薬品に曝される事も無く安全性を高め、露光プロセスの品質向上と歩留まり向上に大きく貢献いたします。

■主な特長
・100,000,000円前後のマスク代を毎年削減※
・マスクに付着したレジストを簡単に除去
・マスクに付着したパーティクルを簡単に除去
・マスクは消耗品から永久使用へ
・洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発
・熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放
・高価なリムーバーや現像液なども不要
価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 TWC-200A
用途/実績例 ■デザインルールL/S(Line and Space )1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適

FPD(フラットパネルディスプレイ)、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。

関連ダウンロード

マスク洗浄機|全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  [必須]
ご要望  [必須]
目的  [必須]
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

株式会社テクノビジョン 本社

ページの先頭へ