「スクラブ洗浄＋リンス」＆「Hot純水乾燥」の2槽式簡易型マスク洗浄装置
マスクに付着した1μm以上のパーティクルを除去する簡易型のマスク洗浄装置。
2槽式のマスク洗浄装置で、1槽目で専用ブラシによるスクラブ洗浄と リンスを行い、2槽目ではホット純水乾燥を行う簡易型のマスク洗浄装置です
1層目のスクラブ洗浄において、専用薬液による洗浄もオプションとして提供しております。専用薬液を使用すると、レジスト残渣を除去することも可能になります。
■主な特長
・ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。
・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。
・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。
・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。
・乾燥は、ホット純水乾燥。
・ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。
・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。
・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。
・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。
・乾燥は、ホット純水乾燥。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | TWC-302 |
| 用途／実績例 | フォトマスク：半導体用、液晶用、有機EL用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、FPC用、その他、板状基板等洗浄可 |
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