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2024-04-22 00:00:00.0
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必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大2、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも…
ニュース一覧
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2024-04-22 00:00:00.0
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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ステージ Max1800℃_Φ2〜Φ4inch
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半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ 超高真空・不活性ガス・O2・…
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2024-04-22 00:00:00.0
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□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■
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卓上サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃
還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上 省スペース:328 x 220 x 250mm
◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用
◉ ハイスペック&…
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2024-04-22 00:00:00.0
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◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇
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研究開発用のRF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
● 到達圧力 5x10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!)
● 膜均一性 ±3%
● 多彩…
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2024-04-22 00:00:00.0
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☆★☆【nanoETCH】ソフトエッチング装置☆★☆
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<30W低出力制御によるダメージレスエッチング
出力制御精度 10mWで、低出力にもかかわらず精密で安定したプラズマ処理。
2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。
【特徴】
• 2D(遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写…
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2024-04-22 00:00:00.0
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【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max 2000℃_ウエハー高温焼成専用(4inch〜8inch)
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
◉Max2000℃
◉3種類のヒーター材質:
・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch
・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch
・TiC3(チタン・カ…
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2024-04-22 00:00:00.0
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☆★☆★【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/カーボンナノチューブ合成装置 ☆★☆★
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◉ 本装置だけで簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能、全てを備えた【Turnkey System】
◎ その他の用途でも熱CVD装置として応用可能
◉ 処理時間わずか30分!
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分…
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2024-04-22 00:00:00.0
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★【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置★ テルモセラ・ジャパン
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コンパクト/省スペース、ハイスペック
60ℓ容積 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込みことができる、様々な用途に対応可能なマルチ薄膜実験装置
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2024-04-22 00:00:00.0
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【SHシリーズ 基板加熱ヒーター_Max 850℃】CVD, PVD薄膜実験用に最適
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テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
◉ 最高使用温度850℃(SH-IN)、1100℃(SH-BN)
基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品…
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2024-04-22 00:00:00.0
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☆★☆ 【TCF-C500 超高温小型実験炉】Max 2900℃ ☆★☆
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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。
実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。
◆主な特徴◆
・省スペース
・ロータリー…
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2024-04-22 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
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MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲…
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2024-04-22 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置★☆★☆
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小型・省スペース! 有機薄膜開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
有機EL, 有機薄膜太陽電池, 有機薄膜太陽電池, 又, グラフェン・2D材料(遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料)などの開発プロセスでは、酸素・水…
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2024-04-22 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
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MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲…
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2024-04-22 00:00:00.0
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
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OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用蒸着源を採用。
簡単タッチパネル操作でPLC自動制御、各種設定を一元管理。
難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。
USBケーブルでPC接続、ロ…
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2024-04-22 00:00:00.0
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★【マグネトロンスパッタリングカソード】★ テルモセラ・ジャパン
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不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
【特徴】
・高真空対応
・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ
・クランプリング式を採用、ボンディングが不要
・メンテナンス性に優れ、容易にターゲッ…
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2024-04-22 00:00:00.0
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多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】
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Φ2inchカソード x 4基搭載
同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1
プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能
MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング…
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2024-04-22 00:00:00.0
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ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)
[ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。
高真空水冷式SUSチ…
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2024-04-22 00:00:00.0
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab-E080A/S060A】
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2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能(写真下)。
1. MiniLab-E080A(蒸着装置)
・EB蒸着:7ccるつぼ…
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2024-04-22 00:00:00.0
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☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆
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スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です…
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2024-04-11 00:00:00.0
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【テルモセラ・ジャパン】 研究開発用各種実験装置・温度計測機器
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Endless possibility_thermal engineering いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、研究開発ニーズに少しでもお役に立てるべく、最新の熱エンジニアリング、温度計測技術を紹介してまいりたいと考えます。当社は放射温度センサ等の温度計測機器、半導体・電子…
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2024-04-11 00:00:00.0
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【セラミック・トップ・ヒーター Max1800℃】PVD/CVD薄膜開発用真空ホットプレート_Φ1inch〜Φ4inch
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半導体, 電子基板等の真空薄膜実験用途に最適!
真空装置内でのシリコン, 化合物, サファイア基板等の加熱・成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタリング等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱ヒーター
プロセスに応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ Maxエレメント温度
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2024-04-11 00:00:00.0
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【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置(Φ8"対応)1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング )搭載!コンパクトサイズ!
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多元マルチスパッタリング装置(Φ8inch基板対応)
・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
・RF500W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更
・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用
・基板加熱ステージ Max…
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2024-04-11 00:00:00.0
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【SHシリーズ 基板加熱ヒーター_Max 850℃】CVD, PVD薄膜実験用に最適
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テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
◉ 最高使用温度850℃(SH-IN)、1100℃(SH-BN)
基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品…
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2024-04-11 00:00:00.0
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■□■ R&D用小型縦型炉 TVF-110 ■□■
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ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉
【用途】
◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
◉…
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2024-04-11 00:00:00.0
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★★テルモセラ・ジャパン_薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」★★
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半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。
【nano Benchtopシリーズ】
卓上型・ハイパフォーマンス!nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置
コンパクト…
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2024-04-11 00:00:00.0
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【Lab6放電プラズマ生成ヒーターユニット】C/Cコンポジットヒーター
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◉ 超高温Max1800℃円筒状加熱ヒーター
ご指定の仕様にて都度製作致します。
* 従来の金属ヒーターでは不可能だった高温領域が必要なアプリケーションに応用検討下さい。
◎ 使用可能環境:真空中, 不活性ガス中 etc..
◎ 発熱体:Graphite, C/Cコンポジットヒーター、など。…
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2024-04-11 00:00:00.0
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◆◇◆【nanoCVD-8G/8N】 グラフェン/CNT合成装置◆◇◆
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◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間
◉ 処理時間わずか30分!
◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機
◆特徴◆
・5inchタッチパネルによる簡単操作・レシピ管理
・最大30レシピ,30ste…
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2024-04-11 00:00:00.0
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
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OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用高温蒸着源を採用。
簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御、操作性・メンテナンス性にも優れたR&D用真空蒸着装置。
難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分か…
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2024-04-11 00:00:00.0
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◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆
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多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
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2024-04-11 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab-026】R&D用 フレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
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必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着…
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2024-04-11 00:00:00.0
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◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)
[ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。
高真空水冷式SUSチ…
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