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2024-10-15 00:00:00.0
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半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ 超高真空・不活性ガス・O2・各種プロセスガス雰囲気に対応
◉ 基板上下/回転機構及びRF/DCバイアス印加可能
◉ 雰囲気に…
ニュース一覧
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2024-10-13 00:00:00.0
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★★【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー★★
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ExTempは、石油化学プラント・医薬品工場・薬品工場などの危険物取扱設備や工場で使用することができる本質安全防爆構造の放射温度センサーです。
(TIIS型式検定合格番号:第21097号)
TIIS(産業安全技術協会)検定取得 危険場所(Zone0, 1, & 2)で使用可能
● …
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2024-10-13 00:00:00.0
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★★【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー★★
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温度範囲・放射率・アラーム等のパラメータをスマートホン、タブレットで設定 表示計器、計器用電源を必要とせず簡単に設定できます。
● スマホ・タブレットを使い設定を行う事ができます。
● 専用アプリをGoogle Playから無料ダウンロード(Android4.1〜5.1)
● Androi…
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2024-10-13 00:00:00.0
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■□【PyroMini USB】(パイロミニUSB)□■ USB接続式小型赤外線温度センサー
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USB接続式小型赤外線温度センサー 電源不要 PCからUSBバスパワーで給電 付属の専用ソフトでパラメータ設定・データ管理
【概要】
標準付属の「CalexConfig」をインストール、あとはUSBケーブルでWindowsPCに接続するだけ。Plug&Play感覚で簡単にPC上でセン…
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2024-10-13 00:00:00.0
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■□【PyroMini】(パイロミニ)□■ 小型高性能赤外線温度センサー
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高機能タッチパネル変換器で簡単設定・データロギング・microSDカードにデータ保存 PM2.2は光沢金属表面の測定も可能
【概要】
視認性の良い高輝度タッチパネルディスプレーで、温度レンジ・放射率・サンプリングレート等のパラメータを直感的に操作・設定。
microSDカードで長期間のデー…
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2024-10-13 00:00:00.0
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◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)
[ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。
高真空水冷式SUSチ…
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2024-10-13 00:00:00.0
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BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
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PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。
様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。
【特徴】
●セミカスタム製品です。ご要望に応じて設計製作いたします。
●予備ヒーター素線との交換が容易
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2024-10-13 00:00:00.0
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■□【PyroUSB】□■ USB接続式 高精度赤外線温度センサー
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【概要】
標準付属の「CalexConfig」とUSBケーブル(1.8m付属)でWindowsPCに接続、PC上でセンサの測定パラメータ設定、測定結果の解析・CSV出力ができます。
1) 4-20mA出力
2) USB出力(USBバスパワーで動作)
3) 4-20mA/USB出力の同時使用
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2024-10-13 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置★☆★☆
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小型・省スペース! 有機薄膜開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
有機EL, 有機薄膜太陽電池, 有機薄膜太陽電池, 又, グラフェン・2D材料(遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料)などの開発プロセスでは、酸素・水…
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2024-10-13 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
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MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲…
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2024-10-13 00:00:00.0
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★【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置★ テルモセラ・ジャパン
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コンパクト/省スペース、ハイスペック
60ℓ容積 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込みことができる、様々な用途に対応可能なマルチ薄膜実験装置
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x …
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2024-10-13 00:00:00.0
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★【マグネトロンスパッタリングカソード】★ テルモセラ・ジャパン
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不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
【特徴】
・高真空対応
・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ
・クランプリング式を採用、ボンディングが不要
・メンテナンス性に優れ、容易にターゲッ…
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2024-10-13 00:00:00.0
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★IntelliLink★nanoPVD薄膜実験装置に新機能「インテリリンク」リモートソフトウエアをリリース!
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nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置、nanoPVD-T15A 金属膜/ 有機膜蒸着装置、nanoPVD-ST15A 複合型薄膜実験装置に専用のリモート管理ソフト「IntelliLink(インテリリンク)」をリリースしました。
装置付属の7"タッチパネルで装置運転・成…
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2024-10-13 00:00:00.0
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多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載!コンパクトサイズ!
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多元マルチスパッタリング装置(Φ8inch基板対応)
・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
・RF500W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更
・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用
・基板加熱ステージ Max…
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2024-10-13 00:00:00.0
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多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】
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Φ2inchカソード x 4基搭載
同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1
プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能
MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング…
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2024-10-13 00:00:00.0
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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム
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2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能(写真下)。
1. MiniLab-E080A(蒸着装置)
・EB蒸着:7ccるつぼ…
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2024-10-13 00:00:00.0
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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S060】
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Φ2inchカソード x 4基搭載
同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1
プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能
MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング…
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2024-10-13 00:00:00.0
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab-E080A/S060A】
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2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能(写真下)。
1. MiniLab-E080A(蒸着装置)
・EB蒸着:7ccるつぼ…
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2024-10-13 00:00:00.0
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【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】カタログを一新しました!
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この度、MiniLabシリーズ薄膜実験装置のカタログを一新しました。
【MiniLabシリーズの特徴】
◉スパッタ、蒸着(抵抗加熱・有機・EB)、アニール、プラズマエッチング等に対応
◉モジュラー式 フレキシブルにコンポーネントの組合せを構成(ソース複合型、マルチチャンバーも可能)
◉コ…
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2024-10-13 00:00:00.0
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☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆
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スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です…
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2024-10-13 00:00:00.0
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☆★☆★【nanoCVD-WGP】ウエハースケール・グラフェン/カーボンナノチューブ合成装置 ☆★☆★
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Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
【装置構成例】
・基板:C…
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2024-10-13 00:00:00.0
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★nano BenchTopシリーズ 薄膜実験装置★
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研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を備えます。nanoシリーズはコンパクトボディに機能を凝縮した高性能装置です。
欠陥が少なく良質な成膜に欠かせない要素である高真空環境・十分なT/S調整距離を確保する堅牢で機密性が高いステンレスチャンバー・高真空ポンプ…
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2024-10-12 00:00:00.0
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◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇
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研究開発用のRF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
● 到達圧力 5x10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!)
● 膜均一性 ±3%
● 多彩…
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2024-10-12 00:00:00.0
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【超高温実験炉】シリーズのアップデート情報_2024.7
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お客様各位
当社では、従来品より更に高機能・操作性に優れた高温実験炉を近々にアップデートいたします。
本年9月末までに製品ラインナップを一新し、あらたな装置情報をご紹介できることと思います。
大学・研究機関向けの最小構成「Mini-BENCH」を基本とし、基本機能を充実、様々なオプション機…
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2024-10-12 00:00:00.0
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◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆
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多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
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2024-10-12 00:00:00.0
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☆★☆ 【TCF-C500 超高温小型実験炉】Max 2900℃ ☆★☆
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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。
実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。
◆主な特徴◆
・省スペース
・ロータリー…
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2024-10-12 00:00:00.0
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□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃
◆装置構成◆
予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。
(A)最小構成:チャンバー + 温度制御ユニット
(B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類)
◉ 円筒状ヒーター:るつぼ内…
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2024-10-12 00:00:00.0
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
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OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用蒸着源を採用。
簡単タッチパネル操作でPLC自動制御、各種設定を一元管理。
難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。
USBケーブルでPC接続、ロ…
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2024-10-12 00:00:00.0
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ウエハーアニール炉【MiniLab-WCF】Max2000℃_超高温ウエハーアニール専用(4inch〜8inch)
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Max2000℃ Φ6〜8inchウエハー専用高温アニール装置 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
◾️ Max2000℃
◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式(多段5枚カセット)
◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御)
◾️…
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2024-10-12 00:00:00.0
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高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
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◉最高使用温度 Max2000℃
◉PLCセミオートコントロール
卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース…
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