テルモセラ・ジャパン株式会社

製品ニュース

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15件
  • 2024-04-28 00:00:00.0
    製品ニュース★IntelliLink★nanoPVD薄膜実験装置に新機能「インテリリンク」リモートソフトウエアをリリース！
    nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置、nanoPVD-T15A 金属膜/ 有機膜蒸着装置、nanoPVD-ST15A 複合型薄膜実験装置に専用のリモート管理ソフト「IntelliLink（インテリリンク）」をリリースしました。
    装置付属の7"タッチパネルで装置運転・成…
  • 2024-04-28 00:00:00.0
    製品ニュース◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉

    ◉有効加熱範囲：Φ2inch〜Φ4inch
    ◉PLCセミオートコントロール
    卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
    「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を…
  • 2024-04-28 00:00:00.0
    製品ニュース【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム
    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能（写真下）。
    1. MiniLab-E080A（蒸着装置）
    ・EB蒸着:7ccるつぼ…
  • 2024-04-28 00:00:00.0
    製品ニュース4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S060】
    Φ2inchカソード x 4基搭載
    同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1
    プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能
    MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆
    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
    マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュースホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ステージ Max1800℃_Φ2〜Φ4inch
    半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
    シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
    CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
    ◉ 超高真空・不活性ガス・O2・…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇
    研究開発用のRF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
    高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
    ● 到達圧力 5x10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
    ● 膜均一性 ±3%
    ● 多彩…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max 2000℃_ウエハー高温焼成専用（4inch〜8inch）
    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応　小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
    ◉Max2000℃
    ◉3種類のヒーター材質：
    ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch
    ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch
    ・TiC3（チタン・カ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース☆★☆★【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/カーボンナノチューブ合成装置 ☆★☆★
    ◉ 本装置だけで簡単にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能、全てを備えた【Turnkey System】
    ◎ その他の用途でも熱CVD装置として応用可能
    ◉ 処理時間わずか30分！
    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
    ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース★【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置★ テルモセラ・ジャパン
    コンパクト/省スペース、ハイスペック
    60ℓ容積 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込みことができる、様々な用途に対応可能なマルチ薄膜実験装置
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース★☆★☆【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
    MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース★【マグネトロンスパッタリングカソード】★ テルモセラ・ジャパン
    不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
    【特徴】
    ・高真空対応
    ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ
    ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要
    ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲッ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュースウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。

    高真空水冷式SUSチ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab-E080A/S060A】
    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能（写真下）。
    1. MiniLab-E080A（蒸着装置）
    ・EB蒸着:7ccるつぼ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    製品ニュース☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆
    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
    抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です…
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