ゼストロンジャパン株式会社

【技術資料】洗浄機構の見直し ~既存洗浄方式の限界~

最終更新日: 2024-04-23 15:52:01.0
既存洗浄方式の限界、難関洗浄への挑戦!低スタンドオフの洗浄などについて解説

当資料では、「低スタンドオフ」を例として、難化しつつある洗浄に
対しての実情とそれを解決する当社洗浄プロセスをご提案しております。

多方面での技術的革新がなされる昨今で、エレクトロニクス洗浄は
新たな段階に進んでおり、「難化」しております。

洗浄需要の背景とポイントや洗浄方式の重要性などについて
解説しておりますので、是非ご一読ください。

【掲載内容(一部)】
■はじめに~洗浄需要の動向変化~
■洗浄の難化-製品の高性能化-
■低スタンドオフの洗浄需要の背景とポイント
■低スタンドオフの洗浄 ぬれ性・洗浄性の確保
■MPCを用いた洗浄のメリット

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

【その他の掲載内容】
■低スタンドオフの洗浄 洗浄方式の重要性
■洗浄の展望

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