最終更新日:
2024-04-08 09:37:43.0
高性能制御基板のフラックス洗浄について!洗浄ノウハウをご紹介
高性能制御基板のフラックス洗浄において、有機溶剤系洗浄剤×噴流方式を
採用していました。
この方法で基板の露出表面は洗浄できていましたが、スタンドオフが20μmを
下回っている部品下部を完全に洗浄できず、必要となる性能が
発揮されないという不良が発生していました。
本ページでは、この課題を解決した方法についてご紹介します。
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※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。
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