ゼストロンジャパン株式会社

【改善事例】不良がゼロ&洗浄時間が半分に

最終更新日: 2024-04-08 09:37:43.0
高性能制御基板のフラックス洗浄について!洗浄ノウハウをご紹介

高性能制御基板のフラックス洗浄において、有機溶剤系洗浄剤×噴流方式を
採用していました。

この方法で基板の露出表面は洗浄できていましたが、スタンドオフが20μmを
下回っている部品下部を完全に洗浄できず、必要となる性能が
発揮されないという不良が発生していました。

本ページでは、この課題を解決した方法についてご紹介します。

※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。

基本情報

※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  必須
ご要望  必須
目的  必須
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

ゼストロンジャパン株式会社

製品・サービス一覧(84件)を見る