ゼストロンジャパン株式会社

【半導体向けフラックス洗浄剤】HYDRON SE 230A

最終更新日: 2024-03-04 11:45:21.0
表面張力が低いことが特長!狭い場所にも良好な洗浄結果をもたらします

『HYDRON SE 230A』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。

リードフレームやディスクリート部品、パワーモジュール、
パワーLED、フリップチップやCMOSといった各種半導体から
ダイアタッチ時に発生するフラックス残渣を確実に除去。

また、ワイヤボンディングやモールディングなど後工程での
銅基板の酸化膜除去にも優れています。

【特長】
■銅基板をシミなく活性化、活性化された表面を一定期間保持させる
■感作性の高い材料への材料適合性に優れる
■ウェハバンプ形成後のフラックス除去に優れる
■一相構造のため工程管理が容易で、浸漬工程において優れた性能を発揮
■イオン交換水でのリンス性が良好で残渣を残さない

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