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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置: モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。; 最終更新日：2024-10-12 16:19:07.0

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◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃

OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用高温蒸着ソースです。固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着（～ 800℃）用セルと高温加熱（～ 1500℃）セルを交換することができます。真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。シャッターはフリップ式を採用チャンバー内に複数のOLEDソースを設置しても他のコンポーネントに干渉することがありません。上部キャップを外すだけで坩堝を取り出すことができますので、材料の充填・補充作業に手間がかかりません。本体部は、1cc 坩堝用（最大充填量1.5cc）、10cc 坩堝用（最大充填量15cc）があり、固定ベースをチャンバーから外さず本体ボディをベースに差し替えるだけで交換可能。熱電対はK、Cのいずれもご指定いただけます。るつぼ：アルミナ（標準）、石英、PBN、カーボンが選択できます。
【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。【スモールフットプリント・省スペース】・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
◆Mini-BENCH-prismセミオート式超高温実験炉◆

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロールタッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置）実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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Professional Thermal Engineering. 熱応用技術で日本の研究開発に貢献してまいります。

【Endless possibility_thermal engineering...】
当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。
いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。

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