最終更新日:
2018-09-12 17:24:22.0
ふっ酸ガスの人への曝露を最小限に抑え作業環境を改善！作業時間短縮にも貢献
当技術資料は、酸添加等自動前処理装置「DEENA」を用いて
半導体等原料のシリコン分解（溶融）における、ふっ化水素酸・
硝酸を用いた自動前処理について考察しています。
半導体原料等におけるシリコン（金属シリコン、Si 単体）の含有成分や
不純物分析を行う際には、ふっ化水素酸を用いることが多くあります。
しかし、ふっ化水素酸とシリコンとは、非常に反応性が高く、フッ化水素酸を
ごく少量ずつ、反応性に注意しながら添加する必要があり、その際、ふっ酸の
ガスが多量に排出されるため、人への曝露にも注意が必要となります。
そこで、酸添加、撹拌、メスアップ等作業をPC制御にて全自動で行うことができる
DEENAを用いて、半導体等原料のシリコン分解（溶融）における、ふっ化水素酸
・硝酸を用いた自動前処理を検討しました。
【掲載内容】
■目的
■概要
■使用試薬
■分析フロー 他
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基本情報
【使用装置の基本性能】
＜DEENA60 本体＞
■試薬等の自動添加（最大8種類の試薬が搭載可能）
■シェーカーによる撹拌
■ホットプレートによる加熱
■放冷
■内部標準液やスタンダード等の自動添加
■超音波高さセンサーを用いたメスアップ
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