上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
半導体関連の大気汚染等に関する空気清浄装置の開発・製造・販売などを行っている株式会社イー・スクエアの製品カタログです。
【掲載内容 ※詳しくはカタログをご覧ください】
常圧プラズマ表面処理装置 「Preciseシリーズ」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。
これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。
また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。
常圧プラズマ表面処理装置 「Preciseシリーズ」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。
これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。
また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。
関連情報
大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」
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【大気圧プラズマ装置の優位点】
■ドライ処理のため乾燥工程不要
■接触角（表面エネルギー）をコントロールできる
■活性ガス(各種ラジカル）処理なので、不織布や繊維束内部まで処理が可能。
■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる
■パーティクルフリー
■排ガス処理も不要
■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型)
■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型)
■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない
■有機表面、内部へのUVダメージがない
■Particle発生がない(ダウンストリーム型)
■残渣物が出来ない表面乾燥ができる
■高密度ラジカルの生成により、窒素ガス消費量の４５％削減（従来比）
■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能
■各種材質表面へのダイレクト接着技術
■還元処理
【大気圧プラズマ装置 課題解決例】テフロン表面への超親水化処理
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各種実験装置製作
立ち合い実験実施中
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お問い合わせ
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株式会社イー・スクエア （株）イー・スクエア
