株式会社イー・スクエア (株)イー・スクエア

大気圧プラズマでの粒子への効率的な表面処理

最終更新日: 2022-02-24 13:15:53.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

関連情報

大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質
大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質 製品画像

【その他の特長】
■プラズマ生成時のUV・DeepUV光量を従来比約1/80に減衰
■ワーク内部の分子間架橋特性変化やダメージ発生がない
■放電電極内でのイオン加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い
■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減
■半導体チップ上の処理も可能(処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>)
■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造(特許)により、高性能化が実現

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