大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現！バグフィルターにて捕獲粒子サイズを簡単に変更可能
大気圧プラズマ装置での粒子の分散性、粒子への親水化、
金属粒子への表面還元を高効率に処理ができる方法を開発しました。
ダウンストリーム型で幅広、長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造を
利用し、ラジカルをキャビティ内部に閉じ込め、ワークと撹拌することで、
より効率的な表面処理を可能にしました。
ワークに対して電気的・電磁波ダメージや、UVダメージを完全に排除しているため、
金属粒子への表面改質はもちろん、ワーク表面へのダメージは皆無。
このため、処理後ワークへの帯電は生じません。
【特長】
■ダウンストリーム型で幅広
■長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造
■ワークに対して電気的・電磁波ダメージや、UVダメージを完全に排除
■プラズマ照射幅（100mm～2000mm）の幅で製作可能
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
【その他の特長】
■プラズマ生成時のUV・DeepUV光量を従来比約1/80に減衰
■ワーク内部の分子間架橋特性変化やダメージ発生がない
■放電電極内でのイオン加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い
■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減
■半導体チップ上の処理も可能（処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>）
■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造（特許）により、高性能化が実現
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
■プラズマ生成時のUV・DeepUV光量を従来比約1/80に減衰
■ワーク内部の分子間架橋特性変化やダメージ発生がない
■放電電極内でのイオン加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い
■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減
■半導体チップ上の処理も可能（処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>）
■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造（特許）により、高性能化が実現
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 |
関連ダウンロード
大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
株式会社イー・スクエア （株）イー・スクエア
