FHR Anlagenbau GmbHは、真空プロセスおよび薄膜技術の分野における
革新的な企業です。
1991年にドイツのドレスデンにおいて薄膜の複数アプリケーション向けに
新しいコンセプトとソリューションの開発と販売を目的として開発と設計に
優れた技術力を持ったエンジニアのグループによって設立されました。
FHRは薄膜技術を提供し、世界中の顧客に幅広い用途向けにカスタマイズ
された機器を提供しています。
【FHRテクノロジーポートフォリオに含まれるもの】
■マグネトロンスパッタリングとCVDによる高度なメタライゼーション技術
■酸化物および窒化物の堆積のための反応性スパッタリング技術
■高密度プラズマ源のサポートによる高度なエッチング技術
■半導体、金属、セラミック、ナノ構造、フォトニック材料の処理と改質の
ためのフラッシュランプアニーリング(FLA)
■複雑な3D形状において高度な成膜制御により優れた均一性を持った
単層結合のための原子層堆積(ALD)技術
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基本情報
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