株式会社ワイ・ドライブ

波長285nm親撥水処理パターン描画装置

最終更新日: 2016-05-30 17:15:49.0

  • カタログ

プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・撥水領域パターン描画装置です。波長285nm

1)有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。
  ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。
2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します

・285nm高出力UVLED使用の安価光学系   
・パターン幅200μm   ・描画域 100×100mm
・DXFファイル使用可

1)有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。
  ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。
2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します

・285nm高出力UVLED使用の安価光学系   
・パターン幅200μm   ・描画域 100×100mm
・DXFファイル使用可
価格帯 100万円 ~ 500万円
納期 お問い合わせください
用途/実績例 1)有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。
  ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。
2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します

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