ゼストロンジャパン株式会社

【半導体向け中性フラックス洗浄剤】HYDRON SE 220

最終更新日: 2024-02-29 08:24:56.0
中性のため、材料適合性にも優れる!ダイアタッチ時などに発生するフラックス残渣を除去

『HYDRON SE 220』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。

リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、パワーLED、
フリップチップやCMOS といった各種の半導体パッケージから
ダイアタッチ時などに発生するフラックス残渣を除去。

一相構造のため、非常に優れた工程管理性と良好なリンス性を示し、
ワイヤボンディングやモールディングなどの後工程を好適な表面状態
に仕上げることができます。

【特長】
■浸漬工程において優れた性能を発揮
■イオン交換水でのリンス性が良好で残渣を残さない
■チップパッシベーションへのアタックもない
■活性化された表面を一定期間保持
■引火点がなく、低臭気のため、防爆仕様なしで浸漬洗浄槽に導入

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