株式会社サーマプレシジョン

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

最終更新日: 2023-01-06 15:11:52.0
ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

■ 8インチ以下は「一括露光方式」、
  12インチは「ステップ&リピート露光方式」の選択が可能
■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現
■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の
  実績あり
■ TAIKOウエハにも対応
■ グローバルアライメント方式
■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現
■ フォーカスマップ機構標準装備

基本情報

・装置:露光機、投影露光機、ステッパー
・用途:半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用
・対応基板:ウエハ(特殊ウエハ含む)各種サイズ、ガラス、有機基板等
・レンズ特徴:解像度 1.5um 以上、等倍、広画角(4~8インチ)
・本体:~12インチ、研究用
・光源は全て LED が標準

その他、カスタム設計、レンズ設計・製造・販売、LED光源の販売

価格帯 お問い合わせください
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型番・ブランド名 MRS
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