最終更新日:
2023-01-06 15:11:52.0
ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS
■ 8インチ以下は「一括露光方式」、
12インチは「ステップ&リピート露光方式」の選択が可能
■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現
■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の
実績あり
■ TAIKOウエハにも対応
■ グローバルアライメント方式
■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現
■ フォーカスマップ機構標準装備
基本情報
・装置:露光機、投影露光機、ステッパー
・用途:半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用
・対応基板:ウエハ(特殊ウエハ含む)各種サイズ、ガラス、有機基板等
・レンズ特徴:解像度 1.5um 以上、等倍、広画角(4~8インチ)
・本体:~12インチ、研究用
・光源は全て LED が標準
その他、カスタム設計、レンズ設計・製造・販売、LED光源の販売
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | MRS |
用途/実績例 | 詳しくはお問い合わせください。 |
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