株式会社イー・スクエア (株)イー・スクエア

プラズマ表面処理装置「AP Plasma Precise II」

最終更新日: 2020-07-14 19:02:09.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

CFRP、カーボン等の繊維における表面改質に適しています。
【掲載内容 ※詳しくはカタログをご覧ください】
プラズマ表面処理装置「AP Plasma Precise II」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。
これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。
また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。

関連情報

大気圧プラズマ表面処理装置 5G向けプリント基板(FCCL)にも
大気圧プラズマ表面処理装置 5G向けプリント基板(FCCL)にも 製品画像

【リチウムイオン電池への電解液の注入時間の短縮について】
ワークの表面に親水性を持たせることで、毛管現象(毛細管現象)の効果があがるため、電解液の注入時間短縮が期待できます。
もし、ご興味をお持ちいただけましたら、一度お問合せいただけますと幸いです。

大気圧プラズマ装置によるCFRP・長尺繊維束向けの高効率表面改質
大気圧プラズマ装置によるCFRP・長尺繊維束向けの高効率表面改質 製品画像

【大気圧プラズマ表面改質の優位点】
■ドライ処理のため乾燥工程(ドライプロセス)が不要
■活性ガス(種々のラジカル)の侵入部分全て処理ができる
■装置がコンパクト(省スペース)
■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型)
■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型)
■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない
■処理中表面へのUVダメージがない
■Particle発生がない(ダウンストリーム型)
■残渣物が出来ない表面乾燥ができる
■高密度ラジカル発生により繊維束内部まで効率的なドライ洗浄ができる。
■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能
■界面制御による同種・異種材料接合技術

大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」
大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」 製品画像

【大気圧プラズマ装置の優位点】
■ドライ処理のため乾燥工程が不要
■目的とする接触角をコントロールできる
■活性ガス(各種ラジカル)の侵入部分全て処理ができる
■添加ガス変更で、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして使用できる
■装置がコンパクト(省スペース)
■排ガス等の後処理も不要
■処理表面への電気的、物理的ダメージがない(ダウンストリーム型)
■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型)
■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない(完全な高周波電力遮蔽)
■処理中のUVダメージがない
■Particle発生がない(ダウンストリーム型)
■残渣物が出来ない表面乾燥ができる
■高密度ラジカル発生により、窒素ガスを半減、生産性の向上に寄与
■添加ガス種の変更により、接着界面に見合う供給結合分子付与の選択が可能
■パーティクルフリー

大気圧プラズマ表面処理装置 FCCL市場向けダイレクト 接着技術
大気圧プラズマ表面処理装置 FCCL市場向けダイレクト 接着技術 製品画像

弊社ラボにてサンプルワークを実施しております。
お気軽にお問合せください。

大気圧プラズマ装置Cu/フッ素樹脂等へのダイレクト接着と超親水化
大気圧プラズマ装置Cu/フッ素樹脂等へのダイレクト接着と超親水化 製品画像

【リチウムイオン電池への電解液の注入時間の短縮について】
ワークの表面に親水性を持たせることで、毛管現象(毛細管現象)の効果があがるため、電解液の注入時間短縮が期待できます。
もし、ご興味をお持ちいただけましたら、一度お問合せいただけますと幸いです。

大気圧プラズマ装置による5G向けプリン基板、FCCL向け
大気圧プラズマ装置による5G向けプリン基板、FCCL向け 製品画像

プラズマ長(幅)で仕様、販売価格が変わります。
ご希望のプラズマ幅(処理幅)をお知らせください。
100ミリ~3000ミリ幅まで製作可能。

卓上式実験機製作可、立ち合い実験可能

大気圧プラズマ装置を利用した電解液の注入時間短縮!
大気圧プラズマ装置を利用した電解液の注入時間短縮! 製品画像

大気圧プラズマ表面処理装置『Precise』について

プラズマ発生部を処理部と分離されているため(ダウンストリーム型)、処理界面にダメージを与えることなく、分子結合を主体に表面に官能基・水酸基、アミン基を付与することで、種々のフィルムや金属薄膜とのダイレクトに接着することが可能です。この技術は電極形成時に有効と考えております。
弊社ラボにてサンプルワーク実施しております。

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈
今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈 製品画像

【当社独自の装置特長(ダウンストリーム型)】
■幅広、長尺物への均一処理(100ミリ~3000ミリ)
■半導体チップ上の処理も可能(処理後のトランジスタ特性変化なし)
■4nmのL&Sでも絶縁破壊等の発生が無い
■ワーク内部の分子間架橋特性変化や分子切断の影響やダメージ発生がない
■Particle発生が無い(0.3μ以上及び2.83SLMのサンプリング時)
■窒素消費が少ない(従来比45%削減)
■処理後のワークへの帯電はほぼゼロ

【当社大気圧プラズマ装置】
■ダウンストリーム型:Precise シリーズ
■プラナー型:Precise Pシリーズ
■スポット型:Precise Sシリーズ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

いまさら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方!
いまさら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方! 製品画像

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【大気圧プラズマ装置 課題解決例】テフロン表面への超親水化処理
【大気圧プラズマ装置 課題解決例】テフロン表面への超親水化処理 製品画像

各種実験装置製作
立ち合い実験実施中

※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  [必須]
ご要望  [必須]
目的  [必須]
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

株式会社イー・スクエア (株)イー・スクエア

ページの先頭へ